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规格参数:
1.磨抛盘(下盘)直径:φ300mm(双盘)
2.磨抛盘(下盘)转速50-400rpm(增量调速,zui小增量10)
3.载样盘(上盘)直径:φ150mm 桃形孔直径:φ25.4mm
4.磨抛头主轴转速10-80rpm(无级调速)
5.加载范围0.5-20Kg(zui小增量0.5Kg)
描述:
双盘压力研磨抛光机主要用于材料研究领域。适用于金属、晶体、陶瓷、玻璃、岩样、矿样等材料样品的研磨抛光,也可用于工厂的小规模生产。该机具有加工精度高,性能稳定可靠,操作简单,适用范围广的特点。本机广泛应用于大专院校,科研院所以及生产领域。
该机装备了二个研磨抛光盘,可以把研磨工序、抛光工序分开来做,避免了交叉污染,提高了工作效率。本机提供的压力稳定可靠,zui大压力可以达到200N。
双盘压力研磨抛光机采用大尺寸彩色触摸屏操作,界面友好,操作方便。全部操作程序都在机器的上部设定,减少了机器下部进水影响机器运行的风险。
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