有机清洗台
2~6寸硅片处理 参考价面议胶水CDS系统
适用于生产供胶 参考价面议养黑膜电镀机
适用于8寸晶圆电镀酸洗 参考价面议KZ链式多晶硅片扩散前清洗机 60MW
用于多晶硅电池生产线中的酸腐蚀制绒和扩散前清洗工序 参考价面议KZ链式多晶硅片扩散后清洗机 60MW
用于多晶硅电池生产线中的湿制程刻蚀和扩散后清洗工序 参考价面议TFT-LCD清洗线
1.采用10.4英寸三菱触摸屏人机界面操作和三菱PLC控制。KZ集中供液系统
*的空间布局,易于管理、操作及维护。基于PLC的自动化控制模块,安全,稳定。 参考价面议LED有机超声波清洗机
适用于2"~6"硅片的清洗过程中,去除工件表面的油污等有机物,去除0.1~0.4μm Partic1e 达95% 参考价面议硅片超声波清洗机
适用于2"~6"硅片的清洗过程中,去除工件表面0.1~0.4μm Partic1e 95% 参考价面议KZONEKZ湿法刻蚀硅片清洗机 60MW
KZ湿法刻蚀硅片清洗机 60MW