PI无氧烘箱工艺流程 工业烘箱
PI无氧烘箱工艺流程 工业烘箱

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PI无氧烘箱工艺流程 工业烘箱

型号
参数
加工定制:是 类型:真空
上海隽思实验仪器有限公司

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 隽思仪器主要业务有HMDS预处理系统,HMDS烘箱,洁净烤箱,百级洁净烘箱,氮气烘箱,高温无氧烘箱,真空无氧烘箱,无尘无氧化烘箱,抗粘剂涂胶机,精密恒温加热台,快速高低温气流仪,超低温试验箱高低温试验箱,高低温交变湿热箱定做,HMDS真空涂胶烘箱,低温脆性检测仪,黑蒜发酵设备,导体直流电阻测试仪,电线电缆检测仪器,真空烘箱,黑蒜试验机,橡塑检测试验机等。
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详细信息

PI无氧烘箱工艺流程

  PI光刻胶是一种高性能、高精度的光刻胶,被广泛应用于微电子、光电子、MEMS等领域

PI无氧烘箱工艺的必要性

  PI光刻胶的预烘是将其涂覆在衬底上后,在特定温度下进行一段时间的烘千,使PI溶液中的溶剂挥发掉,PI形成一定的网状结构并增强其附着性。无氧烘箱用于半导体/电子/新材料/新能源等行业。BCB、PI、PBO胶固化,LCP新材料、锂电池等产品热处理。

PI无氧烘箱工艺流程要求(参考):

  1. 在低氧状态下使用

  2. 真空加热,升温至1xx℃

  3. 再温至1xx℃(约xh),保温约 30min;

  4. 继续升温至x00℃,视涂层厚度不同加热10-x0min

  5. 保温 约60min;

  6. 降温至100℃以下

PI无氧烘箱性能

温度:室温+50~400℃

氧浓度:≤10ppm 

真空度:1Torr

冷却装置:辅助降温

控制方式:可程式运行



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 PI光刻胶的制备一般采用溶解法或乳化法。溶解法是将PI粉末在氮气气氛下溶于甲醇或丙酮等有机溶剂中,加入一定的表面活性齐并在搅拌和加热条件下使其溶解成为PI溶液。乳化法是将PI颗粒悬浮于水相中,经过乳化剂的加入后与有机相反复振荡,使PI成为均匀的乳状体,最终得到PI乳液。

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