铌酸锂无氧化烘箱 工业烘箱

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铌酸锂无氧化烘箱 工业烘箱

型号
参数
材质:不锈钢 工作室尺寸:300-2000mm 功率:4000 加工定制:是 类型:真空 适用范围:PI/CPI/BCB/LCP半导体 温度范围:50-500℃
上海隽思实验仪器有限公司

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 隽思仪器主要业务有HMDS预处理系统,HMDS烘箱,洁净烤箱,百级洁净烘箱,氮气烘箱,高温无氧烘箱,真空无氧烘箱,无尘无氧化烘箱,抗粘剂涂胶机,精密恒温加热台,快速高低温气流仪,超低温试验箱高低温试验箱,高低温交变湿热箱定做,HMDS真空涂胶烘箱,低温脆性检测仪,黑蒜发酵设备,导体直流电阻测试仪,电线电缆检测仪器,真空烘箱,黑蒜试验机,橡塑检测试验机等。
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详细信息

    近些年发展起来的薄膜铌酸锂制备与刻蚀工艺令铌酸锂材料重新活跃于集成光学领域,以铌酸锂高速调制器为代表的一系列集成光学器件得以发展。此外,铌酸锂的其他光学性能也十分优越,下面从铌酸锂晶体性质入手,说明为什么它在集成光学领域具有潜力。

   近日,清华大学精密仪器系李杨副教授团队在薄膜铌酸锂平台上实现了集成光学相控阵。基于薄膜铌酸锂电光调制器,此类集成光学相控阵有望实现超高调制速度、超低能量消耗、低插入损耗。由于该器件能够实现超高扫描速度,在传统应用之外,为其他新应用开辟了可能性,例如高密度点云生成和层析全息术。

  光学相控阵在激光雷达、自由空间通信、虚拟现实(VR)/增强现实(AR)、医学扫描成像等领域有着广泛的应用。在以上这些应用中,相比机械转镜实现的光束扫描,光学相控阵能够提供更长的使用寿命。


   实现光学相控阵的方法有:液晶、MEMS、集成光学,其中集成光学相控阵能够利用现代微电子加工工艺,实现大规模量产。目前主流材料平台是硅基平台,在该平台上,通过热光或电光相位调制的方法,能够实现波束发射角度的偏转。


铌酸锂无氧化烘箱

  真空无氧化烘箱用于半导体晶片、半导体封装和MEMS器件的批量生产。主要用于PI/CPI固化,BCB固化,PBO固化,LCP纤维热处理。

铌酸锂无氧化烘箱技术性能

温度范围:50~300/450℃

升温速率:1~10℃/m,可调

降温时间:≤90min

氧含量性能:≤10ppm 

材料:耐高温316L不锈钢

保温材料:高性能陶瓷纤维

冷却方式:辅助降温

操作方式:人机界面


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产品参数

材质 不锈钢
工作室尺寸 300-2000mm
功率 4000
加工定制
类型 真空
适用范围 PI/CPI/BCB/LCP半导体
温度范围 50-500℃
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