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HMDS疏水烘箱，HMD真空烘箱
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上海隽思实验仪器有限公司（以下简称“隽思仪器”）是一家专业从事仪器设备研发、生产、销售及服务的企业。主要生产半导体工艺设备、环境模拟仪器设备、线缆试验机、橡塑试验检测设备、黑蒜设备等的高新技术型企业，具有很强的自主开发、设计能力,服务于电子、电力、通讯、环保、农业，建筑，节能等行业；多年来，公司以“真挚的服务、优质的品质”为宗旨，为国内外广大用户提供了周到的售前、售中、售后服务。赢得了国内外客户的*好评，更为我们业务的快速发展奠定了一定的基础。我们的服务也更精益求精，更完善！
隽思仪器主要业务有HMDS预处理系统，HMDS烘箱，洁净烤箱，百级洁净烘箱，氮气烘箱，高温无氧烘箱，真空无氧烘箱，无尘无氧化烘箱，抗粘剂涂胶机，精密恒温加热台，快速高低温气流仪，超低温试验箱，高低温试验箱，高低温交变湿热箱定做，HMDS真空涂胶烘箱，低温脆性检测仪，黑蒜发酵设备，导体直流电阻测试仪，电线电缆检测仪器，真空烘箱，黑蒜试验机，橡塑检测试验机等。
不断追求技术进步、提升专业服务能力，做一个专业的仪器设备供应商是我们的发展目标。企业内部实施了CRM、ERP项目管理，在产品开发、质量控制、集成供应链、人力资源管理、财务管理等诸多方面取得了长足发展。同时建立了标准化的服务流程，形成了覆盖全国的快速服务网络，以尽心尽责的服务理念和完备的技术得到用户的*称赞。我们将珍视每一次与您合做的机会，以饱满的热情、真诚的服务与您共创灿烂的未来！
详细信息
亲水性与疏水性的基本概念
亲水性的表面，当水滴落在其上时，会呈现出小于90度的接触角，表明水能够在该表面上扩散，形成较薄的水膜。
疏水性（HMDS疏水设备）的表面，与之相对，当水滴接触到这样的表面时，会形成大于90度的接触角，水滴能够在表面上保持几乎完整的圆形，类似荷叶效应所展现的那样。
晶圆的表面特性，尤其是其对水的亲和性或排斥性，虽然细微，却对芯片的整体性能有着不可忽略的影响。无论是在涂布光刻胶的制备过程、清洗环节，还是在特定薄膜制备过程中，晶圆表面是否能有效吸水或排水，都直接影响到半导体制造的每一个关键环节。
对半导体制造过程的影响
清洗过程：亲水性的表面能够确保清洗液更有效地与晶圆表面接触，进而更 CheDI地去除杂质；而疏水性表面则可能导致清洗不 ，影响后续制程的质量。
光刻过程：光刻胶需要均匀地覆盖晶圆表面。亲水性的表面有助于光刻胶的均匀铺展，确保了光刻过程的精度和均一性；疏水性表面则可能导致光刻胶分布不均，影响芯片的性能。
HMDS疏水烘箱，HMD真空烘箱
HMDS烘箱涂布是涂胶前对硅片表面进行处理，可以增加硅片表面水分子的接触角，使硅片表面从亲水性转化为疏水性，HMDS 一般采用气相涂布的方式。
设备名称：HMDS烘箱
设备型号： JS-HMDS90
内腔尺寸：450×450×450（mm）可选其他数据
材质：外箱采用优质冷轧板喷塑、304不锈钢，内箱采用316L医用级不锈钢
温度范围：RT+10-200℃
真空度：≤133pa（1torr）
电源及总功率： AC 22±10% / 50HZ 总功率约2.5KW
HMDS控制：可控制HMDS药夜添加量
HMDS疏水烘箱，HMD真空烘箱用途：
HMDS烘箱兼容性：2~12寸晶圆及碎片、方片等
适用行业：MEMS、太阳能、电池片、滤波、放大、功率等器件，晶圆、玻璃、贵金属，SiC(碳化硅)、GaN(氮化镓)、ZnO（氧化锌）、GaO（氧化镓）、金刚石等第三代半导体材料。
