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所在地
系列 Series | 杂质 Impurity | 入口 Inlet(ppm) | 出口 Outlet(ppb) |
HON- He/Ar/Ne/Xe -X | O2 | <3 | <1 |
N2 | <1 | <1 | |
H2 | <1 | <1 | |
CO | <1 | <1 | |
CO2 | <1 | <1 | |
THC | <1 | <1 | |
H2O | <3 | <1 | |
PARTICLES | -- | ≤10pcs/m3, 0.003μm | |
Pressure Drop | <1bar | ||
Flow | 10~500Nm3/h |
工艺介绍:
(1)通过吸气工序高温深度脱除O2、CO、CO2、H2O、 CH4、N2等杂质。
(2)通过脱氢工序常温下深度脱除H2杂质。
(3)吸气反应器吸附饱和后须整体更换。
应用领域:
集成电路制造行业
半导体、LED、激光、太阳能光伏行业
气体行业