SEM/TEM样品杆等离子清洗机 清洗/消毒设备
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Tergeo-EM SEM/TEM样品杆等离子清洗机 清洗/消毒设备

型号
Tergeo-EM

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光学透镜和仪器,实验室器具,专用仪器仪表,电化学设备和部件

First-Nano System GmbH 

  • 2003年          创立于德国德累斯顿工业大学(Dresden University of Technology)

  • 2008年          香港成立德国韦氏纳米系统(香港)有限公司   

  • 2015年          上海成立德国韦氏纳米系统(香港)有限公司中国代表处,负责中国区业务

  • 2018年          深圳正式成立韦氏纳米系统(深圳)有限公司,更好的为中国南方区市场

产品范围:

薄膜沉积/Thin Film Deposition 
E-Beam and Thermal Evaporation, PECVD, PLD, DLC, DC & RF Sputtering, Ion Beam Sputtering
刻蚀/Etching
RIE, DRIE, ICP, Ion Beam Milling, RIBE, Plasma, ALE
薄膜制程/Growth
ALD, PA-MOCVD, CNT, Graphene
表面处理/Surface Treatment
Ion Beam, PIII, Plasma Cleaner, RTP
清洗/Cleaning
- Dry: Ion Beam, Plasma Cleaner
- Wet: Megasonic, 杜邦EKC清洗液

 

详细信息

等离子清洗机又称等离子表面处理设备,Tergeo-EM等离子清洗机集于SEM/TEM样品/样品杆表面清洗、抛光、处理与一体,操作简单,具有浸泡式等离子清洗、远程式等离子清洗两种模式。

等离子清洗机又称等离子表面处理设备,Tergeo-EM等离子清洗机集于SEM/TEM样品/样品杆表面清洗、抛光、处理与一体,操作简单,具有浸泡式等离子清洗、远程式等离子清洗两种模式。

 

 

等离子清洗机又称等离子表面处理设备,Tergeo-EM等离子清洗机集于SEM/TEM样品/样品杆表面清洗、抛光、处理与一体,操作简单,具有浸泡式等离子清洗、远程式等离子清洗两种模式。

 

 

 

浸泡式等离子清洗模式               远程式等离子清洗模式

实时监测等离子体强度

 

 

Tergeo内置的等离子浓度传感器,实时显示等离子浓度。用户可根据等离子浓度来调节气体流速及射频能量。可根据样品来设定差异化的参数,满足多种样品的清洗需求

  

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