- 面议
起订量：
PDC-HP 高功率扩展型等离子清洗机 清洗/消毒设备
- 型号
- PDC-HP
该企业相似产品
First-Nano System GmbH
2003年 创立于德国德累斯顿工业大学（Dresden University of Technology）
2008年 香港成立德国韦氏纳米系统（香港）有限公司
2015年 上海成立德国韦氏纳米系统（香港）有限公司中国代表处，负责中国区业务
2018年 深圳正式成立韦氏纳米系统（深圳）有限公司，更好的为中国南方区市场
产品范围：
薄膜沉积/Thin Film Deposition
E-Beam and Thermal Evaporation, PECVD, PLD, DLC, DC & RF Sputtering, Ion Beam Sputtering
刻蚀/Etching
RIE, DRIE, ICP, Ion Beam Milling, RIBE, Plasma, ALE
薄膜制程/Growth
ALD, PA-MOCVD, CNT, Graphene
表面处理/Surface Treatment
Ion Beam, PIII, Plasma Cleaner, RTP
清洗/Cleaning
- Dry: Ion Beam, Plasma Cleaner
- Wet: Megasonic, 杜邦EKC清洗液
详细信息
Harrick Plasma 高功率扩展型等离子清洗机
与扩展型一样具有双倍的清洗速率，高功率扩展型等离子清洗机是一款多功能的工具，适用于刻蚀有机薄膜（10--100nm）以及表面活化改性。
Harrick PDC-HP高功率扩展型等离子清洗机
PDC-001-HP (115V); PDC-002-HP (230V)
主要特点：
紧凑台式设备、没有RF放射、符合CE安全标准。
功率为低、中、高三档可调。
低档功率相当于PDC-2 扩展型等离子清洗机的高档功率设置
清洗腔：长6.5英寸，直径6英寸的耐热玻璃腔体 , 腔盖可拆卸
带有视窗的铰链门
自动风扇冷却
集成真空泵开关
1/8NPT针孔阀控制气流及腔体压力；
整机尺寸：11英寸H × 18英寸W × 9英寸D；
重量：37 lbs；
选配件
石英等离子清洗腔；
气体流量混合器；
真空泵；
