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金属元素分析仪
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光学系统光学结构全谱真空型光学系统光室温度自动控制恒温:35℃±0.5℃波长范围160-800nm光栅焦距350 mm光栅刻线3600 l/mm一级光谱线色散率1.2 nm/mm探测器多块高性能线阵CCD平均分辨率10pm/pixel激发台气体冲氩式氩气流量激发时3-5L/min, 待机时:无须待机流量电极钨材
应用领域:
光学系统 | |
光学结构 | 全谱真空型光学系统 |
光室温度 | 自动控制恒温:35℃±0.5℃ |
波长范围 | 160-800nm |
光栅焦距 | 350 mm |
光栅刻线 | 3600 l/mm |
一级光谱线色散率 | 1.2 nm/mm |
探测器 | 多块高性能线阵CCD |
平均分辨率 | 10pm/pixel |
激发台 | |
气体 | 冲氩式 |
氩气流量 | 激发时3-5L/min, 待机时:无须待机流量 |
电极 | 钨材喷射电极技术 |
吹扫 | 点击自吹扫功能 |
补偿 | 热变形自补偿设计 |
分析间隙 | 样品台分析间隙:4mm |
激发光源 | |
类型 | HEPS数字化固态光源 |
频率 | 100-1000Hz |
放电电流 | 1-80A |
特殊技术 | 放电参数优化设计 |
预燃 | 高能预燃技术 |
数据采集系统 | |
处理器 | ARM处理器,高速数据同步采集处理 |
接口 | 基于DM9000A的以太数据传输 |
电源与环境要求 | |
输入 | 220VAC 50Hz |
功率 | 分析时大700W,待机状态40W |
工作温度 | 10-30℃(该温度范围内温度变化不大于5℃/h) |
工作湿度 | 20-80% |
尺寸与重量 | |
尺寸 | 800*450*500 mm |
重量 | 85Kg |
应用领域: