离子研磨仪 ArBlade 5000

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离子研磨仪 ArBlade 5000

型号

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详细信息

ArBlade 5000是日立离子研磨仪的高性能机型。它实现了超高速截面研磨。
高效率截面加工功能,使电镜截面观察时样品加工更简单。

特点:

截面研磨速率高达1 mm/h*1

新研发的PLUSII离子枪发射出高电流密度离子束,大幅提高*2了研磨速率。

*1
Si突出遮挡板边缘100 µm,1个小时加工深度
*2
研磨速率是本公司产品(IM4000PLUS:2014生产)的2倍

截面研磨结果对比
(样品:自动铅笔芯、研磨时间:1.5小时)

离子研磨仪 ArBlade 5000
本公司产品IM4000PLUS

离子研磨仪 ArBlade 5000
ArBlade 5000









截面研磨宽度可达8 mm!

使用广域截面研磨样品座,加工宽度可达8 mm,十分适用于电子元件等的研磨。

离子研磨仪 ArBlade 5000

离子研磨仪 ArBlade 5000

离子研磨仪 ArBlade 5000








复合型研磨仪

IM4000系列复合型(截面研磨、平面研磨)离子研磨仪。
可根据需求对样品进行前处理。

截面研磨

切割或机械研磨难以处理好的软材料或复合材料的截面制作

平面研磨

机械研磨后样品的精修或表面清洁

离子研磨仪 ArBlade 5000
截面研磨加工示意图

离子研磨仪 ArBlade 5000
平面研磨加工示意图












格:

通用
使用气体Ar(氩)气
加速电压0~8 kV
截面研磨
研磨速率(材料Si)1 mm/hr*1以上含 1 mm/hr*1
研磨宽度8 mm*2
样品尺寸20(W) × 12(D) × 7(H) mm
样品移动范围X ±7 mm、Y 0~+3 mm
离子束间歇加工功能标准配置
摆动角度±15°、±30°、±40°
平面研磨
加工范围φ32 mm
样品尺寸φ50 × 25(H) mm
样品移动范围X 0~+5 mm
离子束间歇加工功能标准配置
旋转速度1 r/m、25 r/m
倾斜角度0~90°

*1
Si突出遮挡板边缘100 µm,1个小时加工深度
*2
使用广域截面研磨样品座时

选配

项目内容
高耐磨遮挡板耐磨遮挡板是标准遮挡板的2倍左右(不含钴)
加工监测用显微镜放大倍率 15×~100× 双目型、三目型(可加装CCD)







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