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GVC-2000T高真空磁控离子溅射仪
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北京格微仪器有限公司长期致力于打造以用户体验为中心的材料表征领域、材料表面改性等仪器设备研发制造，公司总部位于北京海淀中关村，有多名多年从事真空技术、电子光学、离子光学、表面物理、材料制备等技术人员联合发起，团队全部为硕士以上学历或高级职称，具备专业的表面分析、结构分析、原位分析等应用经验，在科研、产业等领域，沉浸多年，具备独立设计、项目承担、生产制造等综合能力。当前聚焦于具有自主知识产权并具备国际竞争力的电子显微镜样品制备设备，并在高校院所和产业单位得到青睐。
详细信息
全自动知识产品
没有热损伤，效率更高，颗粒度更细，更适合高分辨电镜
应用领域
- 高分辨扫描电镜样品制备（实际放大倍数≥100K）
- 电极制备-可制备各种金属电极、ITO电极
设备配置与技术参数
| 名称&型号 | 高真空磁控离子溅射仪GVC-2000T |
| 真空系统 | 涡轮分子泵（进口 ）：德国莱宝90i （单磁悬浮分子泵，抽速为90L/s） 旋片式真空泵：浙江飞越VRD-4 （抽速为 1 .1L/s） |
| 真空测量 | 全量程复合真空规（进口）：1.0E5Pa-1E-4Pa |
| 系统极限真空 | ≤5E-3Pa |
| 溅射电源 | 磁控溅射电源,功率150W |
| 可用靶材 | 所有金属靶材，ITO靶材 |
| 溅射电压 | 300-600V,根据选择靶材、控制参数不同而变化 |
| 溅射电流 | 0-200mA连续可调,步长5mA |
| 溅射时间 | 0-9999s, 连续可调步长1s |
| 操作界面 | 7英寸TFT彩色液晶触摸屏,分辨率800×480 |
| 操作方式 | 一键操作 |
| 抽气节拍 | ＜15分钟 |
| 控制方式 | 只需设定溅射电流和时间即可，全自动控制 具备预溅射挡板（预溅射时间可设定),全自动控制 |
| 保护功能 | 软硬件互锁、防止误操作，具备电流、真空保护等 |
| 样品台直径 | φ125mm，可自转，可自动手动控制，转速4-40rpm可调 |
| 真空室 | 高硅硼玻璃，规格尺寸约φ200×130mm |
| 电源供电 | 220V 50Hz 功率800W |
| 尺寸&重量 | 重量 424（长) ×345（深) ×420mm（高）、 25 kg （净重) |
| 冷却方式 | 内部风冷 |
| 选配 | 样品台选择、膜厚控制、温度监测等 |
镀膜样品示例：
靶材-银 靶材-钨 靶材-铬
靶材-镍 靶材-钒 靶材-锡
靶材-铜 靶材-钽 靶材-贴
靶材-钛 靶材-铅 靶材-钼
靶材-铝 靶材-铂 靶材-金
靶材-锆 靶材-铒 靶材-ITO
