德国Sentech 等离子刻蚀机 ICP-RIE SI 500
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ICP-RIE SI 500 德国Sentech 等离子刻蚀机 ICP-RIE SI 500

型号
ICP-RIE SI 500

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深圳市科时达电子科技有限公司创建于2011年,经过十年的发展,已经成长为一家专注于电子材料、半导体仪器设备、医疗设备三大产品领域的,是一家集研发、制造、销售为一体的企业。我们的主营业务涉及了研发销售及加工电子材料及周边产品;电子光电产品设备研发组装及销售,半导体仪器设备销售;国内贸易、货物及技术进出口;医疗器械研发及销售;医用耗材及医疗用品的销售等。科技创新是科时达公司的核心竞争力。我们拥有一支高度专业化的技术研发和管理团队,建立了国内的实验室和光电研究中心,与多家科研机构与大专院校开展“产、学、研”合作,成功开发出一系列具有高科技含量的市场产品,公司产品通国内科研机构的产品认证。同时,公司拥有电子信息领域相对完备的科技创新体系,在电子装备、医疗设备、产业基础、网络安全等领域占据技术主导地位,肩负着支撑科技自立自强、推进国内科技现代化、加快数字经济发展、服务社会民生的重要职责。聚焦“三大定位”主责,科时达公司按照“做优电子装备、做大仪器设备、做精产业基础、做强研发销售”的总体布局,持续优化核心业务体系,推动企业在科技现代化建设、现代产业体系建设的核心关键技术节点上“布点”,在产业链价值链创新链关键环节上“成线”,在关系国家、国民经济命脉和国计民生关键领域上“控面”。做强电子装备,重点发展利用声、光、电磁信号进行信息感知、传输、运用等的系统级装备和产品,打造全域多维一体新一代电子装备,不断夯实在高校科研领域和高科枝企业的提供地位。做大仪器设备,重点发展半导体仪器基础设施和医疗设备应用与整体解决方案,全面支撑基于网络信息体系的联合和全域能力提升、国家治理能力提升和数字化发展。做精产业基础,重点打造形成电子基础产品科研和生产的基础支撑能力,以夯实产业链供应链自主可控能力为根本目标,推动以“科时达基因”为核心的销售集群式发展。做强研发销售,致力于电子产品的研发。科时达公司是一家,多年来公司研发团队致力于电子材料、半导体仪器和医疗设备的研发。同时企业还致力于将产品做好国内外市场销售,在整体销售模式中具备一套完整的销售体系。以客户需求为导向,以质量求生存,科时达公司以超凡的品质和优良的服务,获得国内外市场的一致认可;公司营销网络覆盖,产品世界各地,目前已经成为国内电子科技行业中重要的生产制造基地。

详细信息

德国Sentech 等离子刻蚀机 ICP-RIE SI 500



低损伤刻蚀

由于离子能量低,离子能量分布带宽窄,因此可以用我们的等离子体刻蚀机SI 500进行低损伤刻蚀和纳米结构的刻蚀。



自主研发的ICP等离子源

三螺旋平行板天线(PTSA)等离子源是SENTECH等离子体工艺设备的属性。PTSA源能生成具有高离子密度和低离子能量的均匀等离子体。它具有高耦合效率和非常好的起辉性能,非常适用于加工各种材料和结构。



高速刻蚀

对于具有高深宽比的高速硅基MEMS刻蚀,光滑的侧壁可以通过室温下气体切换工艺或低温工艺即可很容易地实现。



动态温度控制

在等离子体刻蚀过程中,衬底温度的设定和稳定性对于实现高质量蚀刻起着至关重要的作用。动态温度控制的ICP衬底电极结合氦气背冷和基板背面温度传感,可在-150°C至+400°C的广泛温度范围内提供了优良的工艺条件。


SI 500为研发和生产提供*的电感耦合等离子体(ICP)工艺设备。它基于ICP等离子体源PTSA,动态温度控制的衬底电极,全自动控制的真空系统,使用远程现场总线技术的*的SETECH控制软件和用于操作SI 500的用户友好的通用接口。灵活性和模块化是SI 500主要的设计特点。



SI 500 ICP等离子刻蚀机,可以用于加工各种各样的衬底,从直径高达200 mm的晶片到装载在载片器上的零件。单晶片预真空室保证稳定的工艺条件,并且切换工艺非常容易。



SI 500 ICP等离子刻蚀机,通过配置可用于刻蚀不同材料,包括但不于例如三五族化合物半导体(GaAs, InP, GaN, InSb),介质,石英,玻璃,硅和硅化合物(SiC, SiGe),还有金属等。


ENTECH提供用户不同级别的自动化程度,从真空片盒载片到一个工艺腔室到六个工艺模块端口,可用于不同的蚀刻和沉积工艺模块组成多腔系统,目标是高灵活性或高产量。SI 500 ICP等离子刻蚀机也可用作多腔系统中的工艺模块。


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