高真空单室热蒸发系统

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高真空单室热蒸发系统

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沈阳科晶自动化设备有限公司是由毕业于美国麻省理工学院的江晓平博士于2000年5月创建。与合肥科晶材料技术有限公司、深圳市科晶智达科技有限公司同属于科晶联盟。自SYJ-150低速金刚石切割机诞生以来,沈阳科晶便开始了以赶超国外同行、材料分析设备潮流为目标的发展历程。时至今日,已经拥有涵盖材料切割、研磨、抛光、涂膜、镀膜、混合、压轧、烧结、分析等领域以及相关耗材的上百种产品,可以满足晶体、陶瓷、玻璃、岩相、矿样、金属材料、耐火材料、复合材料、生物材料等制备分析的全套需要。  沈阳科晶立足国内市场实际情况,以提供实用的产品为己任。产品的质量、精度在向国外企业看齐的基础上,产品的价格定位却仅仅是其几分之一。的性价比不仅吸引了众多国内客户,而且令挑剔的外国客商也称赞不已,产品远销于印度、马来西亚、土耳其、波兰、突尼斯、澳大利亚等国家,并大量出口于美国。  沈阳科晶一直致力于高等院校、研究所、生产企业的科研服务,即产品定位于研究市场,主要面向广大高等院校、科研机构、实验室以及工厂的小规模生产。多年以来,已与全国众多高校、研究院所建立了良好的合作、服务关系。其中北京大学、清华大学、浙江大学、哈尔滨工业大学、东北大学等高校,金属研究所、上海硅酸盐研究所、中国科学地质与地球物理研究所等科研机构,中国航天工业集团公司、中国船舶重工集团公司、攀钢集团有限公司等企业都是长期合作的荣誉客户。  沈阳科晶为了更好地服务客户,专门设立了开放式专业实验室,配备了优秀的专业技术人员。在这里,不仅可以提供亲身的产品体验环境,而且还可得到专业人员的操作指导。开设以来,制作的样品达上千件,接待来访客户参观百余次,其中包括多次外国友人的来访。在此,沈阳科晶全体员工诚挚地欢迎您的到来,并希望您能提出宝贵的意见与建议。此外,沈阳科晶拥有优质、高效、专业的销售咨询、售后服务团队,能够为每一位客户提供采购建议与方案、完善的使用指导与售后服务。使每一位客户的需求得到满足是沈阳科晶每个员工不懈努力的目标。  沈阳科晶一路走过的历程,是为我国材料研究事业全力贡献的历程,是以实际行动将自己打造成国内材料分析设备品牌的历程,是与国外同行不断缩小差距的历程,是与广大客户相扶相持的成长历程。虽一路充满坎坷与荆棘,但坚持不懈的沈阳科晶人仍全力以赴的前行。秉承这份坚持,相信在不久的将来,沈阳科晶也将会成为国际市场上专业的、杰出的材料分析设备品牌,沈阳科晶的明天会更加灿烂辉煌。

详细信息

产品简介:高真空单室热蒸发系统用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、 半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。广泛应用 于大专院校、科研院所的薄膜材料科研与小批量制备。

产品型号

高真空单室热蒸发系统

主要特点

系统主要由真空室系统蒸发室、蒸发源系统、样品台系统、 真空抽气及测量系统、气路系统、控制系统、膜厚测试 系统、上盖液压开启机构、电控系统组成。

技术参数

1、极限真空度5×10-5Pa,系统漏率:1×10-7PaL/S; 恢复真空时间:40分钟可达6.6×10 Pa(短时间暴露 大气并充干燥氮气后开始抽气)
2、真空室:圆形真空室,尺寸300× 350mm
3、样品台:尺寸为3英寸×3英寸,厚度3.2mm的平面样品;
4、金属电极:数量:1支,标准型钎焊间接水冷结构;直径Φ20㎜,内水冷
5、有机束源炉:数量:3支,标准型600度控温,向上蒸发成膜;
6、样品架:在基片转盘上有1个基片位置放置样品托(样品托可以分别放置2英寸)孔安装加热炉。为了在2英寸基片台范围内提高膜厚均匀性,基片在镀膜位置实现自转。基片的温度从室温至600℃(硅片上表面的温度,只需标定一次即可)
7、4套挡板系统:基片挡板与源挡板;靶挡板共有3套,动密封手动控制; 样品挡板(1套),磁力拨叉
8、手动控制 气路系统:质量流量控制器1路 石英晶振膜厚控制仪:膜厚测量范围0-999999Å 可选分子泵组或者低温泵组合涡旋干泵抽气系统

标准配件

 

可选配件

 

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