鼎竑GU-SP2000全自动磁控离子溅射仪

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鼎竑GU-SP2000全自动磁控离子溅射仪

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详细信息

优点

安全至上
高压线多重防护;外壳良好接地;真空互锁; 系统
自动防护性切断溅射;实体按键,很安全。

注重用户体验
5英寸液晶屏,简洁明了;
可多设置两个参数,即可开始工作;
系统自动调整真空度,无需人工调节针阀;
自动放气;样品台高度可调节。

信息量大
溅射过程中真空度和溅射电流以曲线方式实时显示,简单直观;
靶材使用时间,仪器使用时间系统自动记录,直观了解设备的运行状态;

快速上手
设备内置操作向导,在操作人员更换时,无需培训,即可快速熟练操作设备;

应用领域广
溅射电流与压力无关、基本没有热损伤,因此适用于所有样品,尤其是温度敏感性样品如生物、聚合
物等样品;工作时真空度好,镀膜的颗粒度更小,更适用场发射等高分辨观测电极制备。

技术参数

输入电压:AC220V±10%,50Hz
工作电压:DC600V
上限功率:(主机与机械泵) 450W
可选靶材:金、铂、银、铜、钛、铅等常用金属
真空泵:两级直联旋片式真空泵 1L/s
真空腔:约φ125×125mm
样品杯:φ64×1
整机尺寸:(长×宽×高) 424×271×255(mm)
重量(主机): 11 kg
工作环境:温度 5~40℃,湿度<60%
存储环境:温度-10~60℃,湿度<80%
工作气体:Air / Ar
保护功能:过流、真空双保护

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