通用磁控溅射镀膜机

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通用磁控溅射镀膜机

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北京中科科美科技股份有限公司是直属企业北京中科科仪股份有限公司的控股子公司,是专门从事真空系统集成产品设计、制造、销售和服务的国家,为客户提供真空系统整体解决方案和一站式服务,包括真空集成系统的总体设计、工程实施、设备安装、技术服务等。公司主营业务分为空间环境模拟装置、充气回收检漏系统、新能源真空应用系统和大科学工程真空配套四大类别。公司的客户行业涉及航空航天、新能源(太阳能和核能)、新兴装备制造、科研院所、大科学工程、工业镀膜、汽车制造、电子、低温、超导、电气检测等多个领域。公司拥有*的装备制造实力,通过了ISO质量管理体系和中核供应商体系认证,拥有3项发明及三十余项实用新型,曾参与:神光Ⅲ、北京高能同步辐射光源、特高压苏通GIL综合管廊工程、江门中微子探测等国家大科学工程项目的实施,在真空领域具有国内的技术实力。中科科美致力于发展成为国内、具有国际竞争力的真空系统集成整体解决方案供应商,实现与客户的共同成长!

详细信息

  一、应用领域

  磁控溅射镀膜机是应用泛的PVD沉积设备,可用于各种单层膜、多层膜和掺杂膜系。可镀各种硬质膜、金属膜、合金、化合物、半导体、陶瓷膜、介质复合膜和其他化学反应膜,亦可镀铁磁材料。该设备主要用于实验室制备光学膜层,电学,光电膜层及其它功能膜层,以及制备用于生长纳米材料的催化剂薄膜层。该设备广泛应用于大专院校及相关科研机构。

  二、性能参数:

  1. 极限真空压力:5×10-5Pa;

  2. 磁控靶:直径Φ50-Φ150;数量:2-4只;

  3. 靶单位面积功率:(W/cm2)5~20;

  4. 靶电源功率(W):DC500-5000W,RF500-1000W;

  5. 基片加热温度:0~500℃可控;

  6. 恢复真空抽气时间(分):从大气至5×10-4Pa<30min;

  7. 工艺气体:MFC 1-4路;

  8. 样品架:公转或公自转;

  9. 其它配置:偏压、膜厚仪、薄膜规、磁控靶电(气)动挡板可选;

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