高低温一体恒温槽为用户提供热冷受控，温度均匀恒定的场源，也可作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源， 应用于-40℃～180℃（温度高至195℃）石油化工、制药等化学反应工艺过程控制，半导体扩散炉扩散工艺控制，对反应釜、全自动合成仪器、萃取以及冷凝装置的恒温控温或外循环应用

产品特点

> PID精密恒温控制系统，精密恒温控制系统，恒温波动度±0.1℃，适用于高至195℃，低-40℃的化工、制药等化学反应工艺过程控制等；

> 单点温度校准和电位器校正，温度数据更可靠；

> 压缩机，噪音低，制冷效率高；

> 制冷相关配件采用进口品牌，性能稳定且寿命长；

> 制冷系统具备高压保护器，确保制冷系统安全；

> 全封闭高低温磁力泵循环搅拌，温场均匀，免除泄露和异常噪音；

> 具备传感器开路、短路保护、ADC初始化检测等，安全防护更全面；

可选附件

> 可选配RS485通讯接口；

> 可选配嵌入式不锈钢盖，用于更紧凑的空间需求；

> 可选配SUS304液槽隔板，用于浸入式实验需求；

安全保护装置

> 具有断电记忆功能；

> 温度上下限制保护和报警功能；

> 三重温度保护，高低温限制保护，加热限制保护；

应用范围

石油化工、制药等化学反应工艺过程控制，半导体扩散炉扩散工艺控制，对反应釜、全自动合成仪器、萃取以及冷凝装置的恒温控温或外循环应用。

技术参数

高低温恒温槽MGD40-20

备注：高低温恒温槽所有技术参数均为标准配置参数，涉及温度波动度、压力、流量、制冷功率、加热功率等详细技术参数也可以向相应销售索取；若客户对设备压力、流量、外循环等特别要求或高精度恒温控制，我公司可以根据实际的需求做非标定制化处理。

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