一、硅材料冲洗用高纯水设备应用范围概述：

电解电容器生产铝箔及工作件的清洗

电子管生产　电子管阴极涂敷碳酸盐配液

显像管和阴极射线管生产　配料用纯水

黑白显像管荧光屏生产　玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水

液晶显示器的生产　屏面需用纯水清洗和用纯水配液

晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制

集成电路生产中高纯水清洗硅片

二、典型工艺流程

     预处理系统－反渗透系统－中间水箱－粗混合床－精混合床－纯水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－抛光混床－精密过滤器－用水对象 （≥18MΩ.CM）（传统工艺）

      预处理－反渗透－中间水箱－水泵－EDI装置－纯化水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－抛光混床－0.2或0.5μm精密过滤器－用水对象（≥18MΩ.CM）（工艺）

       预处理－一级反渗透－加药机（PH调节）－中间水箱－第二级反渗透（正电荷反渗膜）－纯水箱－纯水泵－EDI装置－紫外线杀菌器－0.2或0.5μm精密过滤器－用水对象（≥17MΩ.CM） （工艺）     

         预处理－反渗透－中间水箱－水泵－EDI装置－纯水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－0.2或0.5μm精密过滤器－用水对象（≥15MΩ.CM）（工艺）

          处理系统－反渗透系统－中间水箱－纯水泵－粗混合床－精混合床－紫外线杀菌器－精密过滤器－用水对象 （≥15MΩ.CM）（传统工艺）

三、达到标准

  显像管、液晶显示器用纯水水质（经验数据）

    集成电路用纯水水质

    国家电子级纯水标准

    美国SEMI标准

四、设备特点

        为满足用户需要，达到符合标准的水质，尽可能地减少各级的污染，延长设备的使用寿命、降低操作人员的维护工作量.在工艺设计上，取达国家自来水标准的水为源水，再设有介质过滤器，活性碳过滤器，钠离子软化器、精密过滤器等预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床（EDI电除盐系统）系统等。 系统中水箱均设有液位控制系统、水泵均设有压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器，真正做到了无人职守，同时在工艺选材上采用*和客户要求相统一的方法，使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。