襄阳仪波达可控硅硅片清洗机，两个单槽组合成的超声波清洗机。一些有较高清洁度要求的工件通过一道清洗作业不能够达到清洁度要求的，可以通过再次清洗方式达到非常高的清洁度要求。 

襄阳仪波达可控硅硅片清洗机一般按照客户工件清洗要求设计制造，可以由超声波清洗，超声波漂洗，热浸泡，烘干，上油等等工序或工序组合，可根据客户实际需要。由机架,操作台面,引风装置,机台照明,电控单元及清洗槽体等组成.本半导体硅片清洗设备的。引风装置由引风窗和排风口所组成。3.机台台面为多孔结构,有利于操作台面水,液的排出和清洁。照明采用20W照明灯管 。本半导体硅片清洗机每个槽体均由的控制器进行控制,其工艺参数均可单独修改。电控单元设置在机台的左上部,控制键盘,启停按钮以及急停开关均设置其上。加热槽体采用氟加热管。有保温装置。

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