GM2000/04实验室高剪切胶体磨在一般的情况下，我们的机械密封可以zui大承受16bar 压力，根据机械密封的压力一般要高于密封腔体的压力2-3bar ,这就决定我们的入口zui大压力可以达到12-13 bar .

同时机械密封的使用寿命和以下因素有关：

满足以下条件使得机械密封的使用寿命更长:

- 可允许的压力比率

- 充份的冷却和湿度

- 材料的合适搭配.

机械密封本身会产生磨损和破裂. 磨损得主要原因是:

- 压力差

- 温度

- 分散物料的腐蚀性

- 密封的材料

      GM2000/04实验室高剪切胶体磨的细化作用一般来说要弱于均质机，但它对物料的适应能力较强（如高粘度、大颗粒），所以在很多场合下，它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。

      公 司另外一项*的创新，就是锥体磨GMO2000系列，它的设计使其功能在原有的GM2000的基础上又进了一步。由于这项创新，GMO2000能够湿磨 和研磨，产生的颗粒粒径甚至比胶体磨GM2000还小。研磨间隙可以无级调节，从而可以得到精确的研磨参数。研磨头的表面涂上了一层极其坚硬的硬质材料， 从而使其表面具有非常粗糙的纹理。这种硬质材料是由碳化物、陶瓷等高质量物质构成，并且具有不同的粒径。研磨头处形成了一个具有强烈剪切的区域，可以输送 高粘度和低粘度物料，但它的分散效果和zui后的粒径大小都比胶体磨GM的效果更加理想。

        GM2000/04实验室高剪切胶体磨的技术参数：功率1.5-2.2KW,转速0-14000rpm,线速度 0-40m/s,电压380V,机器产量为 0– 700 升/小时（水），重量35KG,尺寸 (长宽高）(450X250X350)MM，LP使用轴封（PTFE 环），在正常的情况下，一般轴封可以使用3000-4000次。LP不能24小时连续使用，一般zui多可以使用连续半个小时，这要依据料液的温度和转速而定。LP也可以通过变换模块，可以实现多功能多用途，是实验室中试生产的选择。

实验室胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生 向下的螺旋冲击力，透过实验室胶体磨定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。 

      GM2000/04实验室高剪切胶体磨的技术参数：功率2.2KW，转速0~14000rpm，线速度0~44m/s，电压380V，机器产量为0~700升/小时（水），重量45KG，尺寸(长宽高450X250X350)mm，使用双机械密封，可24小时不停机连续生产，并通冷媒对密封部分进行冷却。机械密封和机械设计符合3A健康标准，是实验和中试生产的选择。

GM2000/4管线式高剪切胶体磨的技术优势主要体现在以下几个方面——

1. 转速相较其它厂家2900转左右高出三倍

GM2000/4为立式分体式结构，通过皮带传动，并实现加速，加速比为3：1即正常50HZ频率下转速为7890RPM，外加变频可达13789RPM。GM2000/4分散头直径为55mm。

    我们的磨头的结构：沟槽的结构式斜齿，每个磨头的沟槽深度不一样，并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下，而他们的斜齿的每个磨头的沟槽深度一样，流道 体积是一样大，这样形成了本质的区别。我们可以保证物料从上往下一直在进行研磨，而他们只能在一级磨头到另外一级磨头形成研磨效果。
      GM2000/4 实验室胶体磨是专门为胶体溶液生产所设计，特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。GM2000/4实验室胶体磨的线速度很高，剪切间隙非常小， 这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。 GM2000/4实验室胶体磨的定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯 齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满 足不同行业的多种要求。