碳化硅CVI/CVD沉积炉

碳化硅CVI/CVD沉积炉

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2022-03-24 11:42:47
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产品简介

碳化硅CVI/CVD沉积炉主要用于碳纤维、碳化硅纤维及其编织预制件等的碳化硅界面层制备。

详细介绍

碳化硅CVI/CVD沉积炉技术特征

电阻炉可采用多温区独立控温,温度均匀性好;

采用智能压力调控,压力波动小;

全封闭沉积室,密封效果好,抗污染能力强;

多通道工艺气路,流场均匀,无沉积死角,沉积效果好;

多级高效尾气处理系统,环境友好,易清理;

碳化硅CVI/CVD沉积炉产品规格

参数/型号CVI-0305-SiCCVI-0608-SiCCVI-0612-SiCCVI-0812-SiCCVI-0817-SiCCVI-1120-SiCCVI-1320-SiCCVI-1520-SiC
工作区尺寸 φ×H(mm)300×500600×800600×1200800×1200800×17001100×20001300×20001500×2000
温度(℃)15001500150015001500150015001500
温度均匀性(℃)±5±7.5/±10±7.5/±10±7.5/±10±7.5/±10±10/±15±10/±15±15/±20
极限真空度(Pa)1-1001-1001-1001-1001-1001-1001-1001-100
压升率(Pa/h)0.670.670.670.670.670.670.670.67
加热方式电阻电阻电阻电阻电阻电阻电阻电阻

以上参数可根据工艺要求进行调整,不作为验收依据,具体以技术方案和协议为准。

碳化硅CVI/CVD沉积炉配置选择

结构形式:立式-上出料/下出料

炉门锁紧方式:手动/自动

炉壳材质:内层不锈钢/全不锈钢

保温材质:碳毡/石墨毡/碳纤维固化毡

加热器、马弗材质:石墨/CFC

热电偶:C/S分度号

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