CM2000沉淀法碳包覆白炭黑打浆高速连续式胶体磨
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碳包覆白炭黑橡胶混合胶体磨采用淀粉、低聚糖、甘油、聚乙二醇为原料,对白炭黑进行改性,在二氧化硅表面均匀包覆一层碳层,再经惰性气体或绝氧氛围中高温碳化得到一种以二氧化硅为核、碳为壳的核壳结构纳米粉末。与传统白炭黑相比,碳包覆白炭黑表面拥有*的碳包覆层,赋予了白炭黑导电性,提高了白炭黑的结构性,改善了白炭黑与橡胶的相容性,且应用在轮胎中提高了轮胎的抗湿滑性能,摩擦生热小等特点。
白炭黑是一种超细微具有活性的二氧化硅粒 子, 化学名称为水合无定形二氧化硅或胶体二氧化 硅, 是一种重要的精细无机化工产品. 根据制备方 法的不同, 白炭黑分为气相法白炭黑和沉淀法白炭 黑. 气相法白炭黑主要采用四氯化硅在氢氧火焰中 高温水解而制备, 沉淀法白炭黑主要采用硅酸钠与 无机酸中和沉淀反应而制备。
白炭黑具有特殊的表面结构( 带有表面羟基和 吸附水) , 特殊的颗粒形态( 粒子小, 比表面积大等) 和*的物理化学性能, 广泛应用于橡胶, 塑料, 涂 料, 医药, 日用化工诸多领域. 然而, 由于白炭黑内部的聚硅氧和外表面存在 的活性硅醇基及其吸附水, 使其呈亲水性, 在有机 相中难以湿润和分散, 而且, 由于其表面存在羟基, 表面能较大, 聚集体总倾向于凝聚。
IKN改性白炭黑胶体磨,是IKN公司研发出来的新品,是由胶体磨和分散机组合而成的。将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变跟为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。白炭黑既可以有效分散,又可以防止团聚。
此款立式胶体磨比普通的卧式胶体磨的速度达到3倍以上,zui小的转速可以达到14000RPM。所以可以达到更好的分散湿磨效果。
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改性白炭黑胶体磨是由胶体磨,乳化分散机组合而成的高科技产品。
*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度,中等精度,细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数,狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验工作头来满足一个具体的应用。
改性白炭黑在设计上的突出优点在于:
1,转速zui高可达14000转,相较其它厂家2900转左右高出约三倍:
2,磨头结构更精密并有*设计,使之研磨作用力更大,效果更好。
3,德国进口双端面机械密封拥有*结构和特殊材质保证高速运转和长使用寿命。
4,CMD2000/5中试型研磨机与大型工业管线式量产机型配置基本相同。各种工作头的种类及相应线速度相同,中试过程中的工艺参数在工业化后之后不用重新调整,从而将机器型号升级到工业化的过程中的风险降到zui低。
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改性白炭黑胶体磨:
型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN |
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CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
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CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
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CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
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CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
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CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
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CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
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| 流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。 |
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