SWC-4000单晶圆兆声清洗机应用：

• 带图案或不带图案的掩模版和晶圆片
• Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗
• CMP处理后的晶圆片清洗
• 晶圆框架上的切粒芯片清洗
• 等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗
• 带保护膜的分划版清洗
• 掩模版空白部位或接触部位清洗
• X射线及极紫外掩模版清洗
• 光学镜头清洗
• ITO涂覆的显示面板清洗
• 兆声辅助的剥离工艺

SWC-4000单晶圆兆声清洗机的特点：

• 支持12"直径的圆片或9"x9"方片
• 独立系统
• 无损兆声,试剂，毛刷清洗及旋转甩干
• 微处理机自动控制
• 化学试剂滴胶单元
• 溶剂与酸分离排废
• 热氮
• 30"D x 26"W 的占地面积

SWC-4000兆声晶圆清洗机选配项：

• 掩模板或晶圆片夹具
• 臭氧清洗
• PVA软毛刷清洗
• 高压DI清洗
• 氮气离子发生器

客户可以根据基板尺寸的大小订制不同的兆声清洗系统，如有技术咨询，请及时：

First-Nano的技术也适用于清洗背部以及带保护膜掩模版前面的对准标记，降低这些掩模版的不必要去除和重做保护膜的几率。它也可以用于去除薄膜胶黏剂的黏附性并准备表面以便再次覆膜。此外，带薄膜掩模版的全部正面的兆声清洗以及旋转甩干可以做到无损并且对薄膜无渗漏。

SWC是一款带有小占地面积的理想设备，并且很容易安装在空间有限的超净间中。该系列设备都具有出众的清洗能力，并可用于非常广泛的基片。