低温制冷循环水温机
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低温制冷循环水温机广泛用于各种实验研究用仪器及工业生产用设备发热部的冷却恒温作用分析仪器：原子吸收、质谱仪、旋光仪。医疗设备：降温毯。工业设备及激光设备： 生物制药。科学实验设备：分子泵旋转蒸发仪、蒸馏器、发酵装置、激光器、金属快速成型装置、真空镀膜机。
半导体制造装置发热部的冷却：单晶片洗净转载、印刷机、自动夹座安装装置、喷涂装置、离子镀装置、蚀刻装置、单晶片处理装置、切片机、包装机、显影剂的温度管理、露光装置、生磁部分的加热装置等。对激光装置发热部分的冷却：激光加工、熔接机的发热部分、激光标志装置、发生装置、二氧化碳激光加工机等。
低温制冷循环水温机技术参数：
型号 | ℃ 温度范围 | L/min bar 循环泵 | 电源 | （kw） at （℃） 制冷量 | 加注冷媒 | |||
-20 | -35 | -55 | ||||||
DW-418 | —40～30 | 20 | 0.7 | 220/380V 50/60HZ | 1.2 | 0.4 |
| R404A R407C
|
DW-440 | —40～30 | 20 | 0.7 | 2.7 | 0.75 |
| ||
DW-462 | —40～30 | 35 | 1 | 3.8 | 1.1 |
| ||
DW-490 | —40～30 | 35 | 1 | 5.5 | 1.5 |
| ||
DW-4A1 | —40～30 | 35 | 1 | 7 | 2.1 |
| ||
DW-4A2 | —40～30 | 80 | 1.5 | 14 | 4 |
| ||
DW-618 | —60～—20 | 20 | 0.7 |
| 0.6 | 0.4 | R404A R23 R13 | |
DW-630 | —60～—20 | 20 | 0.7 |
| 1.1 | 0.6 | ||
DW-662 | —60～—20 | 35 | 1 |
| 2 | 1.15 | ||
DW-6A1 | —60～—20 | 35 | 1 |
| 3.5 | 2 | ||
DW-6A2 | —60～—20 | 75 | 1.5 |
|
| 13 | 5., 8 | |
