YUKEN油研柱塞泵还包括执行气缸定位装置供应PV2R1-6-F-RAA-41 PV2R1-8-F-RAA-41叶片泵所述di一Y轴滑动轨道660安装于承载板622，所述Y轴滑动基台640呈板状，所述Y轴滑动基台640滑动安装于di一Y轴滑动轨道660；所述Y轴基台驱动装置650固定安装于所述X轴滑动板621，所述Y轴基台驱动装置650的工作轴安装于所述Y轴滑动基台640。

本方案在Z轴滑动板安装了XY调整组件600，如此即使执行装置200具有了X、Y和Z三个自由度的运动，进一步扩大了调整范围，使执行装置200能够更方便的进行调整，在对于型号不同的压缩机时，可以更快的做出调整，使设备在面对型号不同的压缩机时，能够方便快捷的作出调整，本方案在执行装置200调整方面很方便快捷，提提高了生产效率。

此外，所述Y轴滑动基台640上表面安装有X轴微动轨道750；调整装置400还包括还包括微调平台700，所述微调平台700包括X轴微调平台710和X轴微调驱动装置720；

所述X轴微调平台710滑动安装于所述X轴微动轨道750，所述X轴微调驱动装置720固定安装于所述X轴微调平台710，所述X轴微调驱动装置720的工作端安装于所述Y轴滑动基台640。

在Y轴滑动基台640安装了X轴微动轨道750，使装置在具有了X、Y和Z粗略定位之后，还能够在X轴方向进一步微动定位，进一步并且相对地提高了执行气缸221在X轴方向的行程；再者，通过X轴微调驱动装置720对X轴微调平台710进行调整，在操作方面简单快捷。

其中，所述微调平台700还包括Y轴微调平台730和Y轴微调驱动装置740；所述X轴微调平台710上表面安装有Y轴微动轨道760，所述Y轴微调平台730滑动安装于所述Y轴微动轨道760；所述Y轴微调驱动装置740固定安装于所述Y轴微调平台730，所述Y轴微调驱动装置740的工作端安装于所述X轴微调驱动装置720；

YUKEN油研柱塞泵还包括执行气缸定位装置供应PV2R1-6-F-RAA-41 PV2R1-8-F-RAA-41叶片泵所述执行基座210固定安装于所述Y轴微调平台730。在X轴微调平台710通过了Y轴微动轨道750安装了Y轴微调平台730，使装置在具有了X、Y和Z粗略定位以及X轴微调平台710之后，还能够在Y轴方向进一步微动定位，X轴微调平台710和Y轴微调平台730构成了二级XY定位调整装置，也就是说，在粗略调整XY之后，再通过X轴微调平台710和Y轴微调平台730进一步调整坐标点，从而确定zui优的定位精度；再者，通过Y轴微调驱动装置740对Y轴微调平台730进行调整，在操作方面简单快捷。

此外，所述X轴微调驱动装置720包括固定于所述X轴微调平台710的di一X轴微调气缸721和di二X轴微调气缸722；

所述di一X轴微调气缸721和di二X轴微调气缸722的工作端背向设置，所述di一X轴微调气缸721和di二X轴微调气缸722的工作端均固定于所述Y轴滑动基台640；

所述di一X轴微调气缸721和di二X轴微调气缸722安装于所述X轴微调平台710的后端。

X轴微调驱动装置710的结构就是两个反向设置的气缸，由于X轴微调平台710和Y轴微调平台730的位置较小，相对只能安装体积较小的气缸，然而通常情况下，气缸的推动力越大，气缸的体积就越大，所以通过反向设置两个气缸分别控制两个方向的驱动；X轴微调驱动装置710的结构使用小体积的气缸实现了工作效果，并且占用X轴微调平台710空间少，相对地在狭小空间内增大了X轴微调平台710的滑动行程。

此外，所述Y轴微调驱动装置740包括固定于所述Y轴微调平台730的di一Y轴微调气缸741和di二Y轴微调气缸742；

所述di一Y轴微调气缸741和di二Y轴微调气缸742的工作端背向设置，所述di一Y轴微调气缸741和di二Y轴微调气缸742的工作端均固定于所述X轴微调平台710；

所述di一Y轴微调气缸741和di二Y轴微调气缸742分别位于所述Y轴微调平台730两侧。

Y轴微调驱动装置740的结构也是两个反向设置的气缸，由于X轴微调平台710和Y轴微调平台730的位置较小，相对只能安装体积较小的气缸，然而通常情况下，气缸的推动力越大，气缸的体积就越大，所以通过反向设置两个气缸分别控制两个方向的驱动；Y轴微调驱动装置740的结构使用小体积的气缸实现了工作效果，并且di一Y轴微调气缸741和di二Y轴微调气缸742分别位于所述Y轴微调平台730两侧，因此占用Y轴微调平台730空间少，相对地在狭小空间内增大了Y轴微调平台730的滑动行程。

以上结合具体实施例描述了本发明的技术原理。这些描述只是为了解释本发明的原理，而不能以任何方式解释为对本发明保护范围的限制。基于此处的解释，本领域的技术人员不需要付出创造性的劳动即可联想到本发明的其它具体实施方式，这些方式都将落入本发明的保护范围之内。