光学元件面型测量仪
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Kaleo MultiWave 是一台多波长工作的光学元件面形测试系统,用于替代昂贵、低效、操作复杂的干涉仪,测量光学元件的表面面形、透过波差等参数。
Kaleo MultiWave 通过单次测量即可提供完整的3-D形貌及非平面元件的曲率。所有表面质量参数尊崇ISO 10110标准。表面不规则,粗糙度以及波纹亦可测试。
Kaleo MultiWave的多波长测试功能可以在光学元件设计的工作波长进行测试,从而对光学元件基底、镀膜获得完整的评价。仪器具备和传统干涉仪同等的精度,同时具备更大的动态范围以测试复杂面形的光学元件。测试以双程模式工作,兼容透射与反射测量。
多波长干涉仪:
同一机台,多个波长
标配:625nm - 780nm - 1050nm
可选:UV - 400nm - 1100nm - 短波红外
高动态范围:
> 20um PV
高度畸变波前测试
高精度:
精度与干涉仪同等
高重复度,低噪声
高性价比的干涉仪解决方案
规范:
遵从ISO 5725 标准
兼容MetroPro 格式
兼容 ISO 10110 格式
用途:
表面面形测试
镀膜(AR,介质膜,金属膜测试......)
窗片,干涉滤光片测试
透镜,非平面镜测试
应用:
光学元件研发制造
滤光片及窗片制造
空间及防务
汽车工业
激光器及其应用
光学元件面型测量仪KALEO MultiWave技术指标:
光路结构 | 双通路 |
标准配置波长 | 625, 780, 1050nm |
可选波长 | 400 - 1100nm,UV, IR |
有效口径 | 130mm |
可重复性 (ISO 5725) | < 5nm rms |
可再造性 (ISO 5725) | <7nm rms |
动态范围 (失焦), RWE | 10um PV |
动态范围 (失焦), TWE | 200nm rms |
精度 (RWE) | <80nm rms |
精度 (TWE) | <20nm rms |
光学元件面型测量仪KALEO MultiWave测试实例:
与Fizeau干涉仪测试结果的比较
NBP-780滤光片测试。二者测量RWE的偏差小于40nm P-V
非球面镜3-D面形
单次测量,无需空白透镜。可通过扣除理想曲面得知面形残余误差,从而获知非球面镜的加工质量。
产线设备监控
通过对塑料、树脂模压光学元件的直接测试,实时获知加工效果,对模具状态、工件调整精度等作出实时评价。