GDA 650 HR/GDA 150 HR的成功推出，意味着以CCD检测器为代表技术的辉光放电光谱仪进入了新的高度。装备有一代的CCD固态检测器，与高分辨率光学系统匹配。新一代的CCD检测器不但具备传统光电倍增管的低噪声、宽动态范围的特点，而且还具备优异的分辨力和全谱数据采集能力，特别适合同时需要高精度检测和分析灵活性的用户。

  高分辨率CCD光学系统使得GDA 650 HR/GDA 150 HR具备无限的扩展能力，允许使用者在任何分析方法下任意扩展和增加任何分析通道。
  这种灵活性允许进行快速的基体总量和涂镀层分析，所有元素，包括O，N，C等非金属元素均可进行定量分析。

  - 在含量-深度测量中，分析深度可达200um以上，层分辨率可达纳米级。

  - GDA 650 HR/GDA 150 HR也可进行基体总量分析，尤其对于复杂基体，具备优异的线性校准曲线。检出限可达ppm级。
  - GDA 650 HR/GDA 150 HR装备有一代的辉光激发光源，溅射直径从1mm至8mm。采用通用样品夹具(USU)，也可进行小样品和异形样品的分析，无需更换特殊电极。
  - GDA 650 HR也可选装配置脉冲式射频光源(选装件)，用于分析非导体材料。
  - 采用脉冲式射频光源后，可分析非导体、热敏感样品，如：陶瓷、玻璃、有机涂层、有机薄膜。还可选装配置特殊样品转移室(选装件)，用于分析极薄的薄膜和在空气中易氧化的薄膜。

激发光源：
- 同一激发光源允许安装直径为1mm至8mm电极，从而保证优秀的稳定性和重复性
- 高效的样品直接冷却。可直接分析热敏感样品、极薄的金属薄膜和有机薄膜。如可直接分析50um的不锈钢薄膜
- 优化的氩气流量控制，可以同时实现低检出限和高深度分辨率
- 专门设计的自动清扫装置，保证了高精度、高重复性测量样品分析厚度45mm，最小厚度50um
- 程序自动控制的直流光源(DC)，电压可达1500V，电流250mA
- 程序自动控制的射频光源(RF)，功率150W，电压、电流自动监控，实时等离子自动调节、脉冲工作模式(选装件、仅GDA 650有效)
- 选装件：自动进样器，程序控制100位

光学系统：
- 高性能CCD光学系统，光谱范围120--800nm
- 光谱分辨率优于20pm(FWHM)
- Paschen-Runge光学系统，焦距400mm
- 全息原刻光栅，2400线/mm
- 光室恒温控制，仪器稳定性优异
- 可无限制的配置分析通道，所有元素同时检测
- 方便易操作的透镜清洁，可立即进行分析

- CCD检测器的灵敏度可自动调节
 

真空系统：
- 全不锈钢壳体，可充分保证痕量元素的分析，尤其对于N元素分析
- 光室真空采用二级旋转叶片真空泵，噪音<50dB
- 单泵设计，同时运用于光源和光室
- 特殊的旋片真空泵，可限度的减少C，H元素的污染
- 内置安全阀设计，以避免突然断电对旋转叶片泵的损害
- 选装件：涡轮分子泵

- 选装件：旋转叶片真空泵可用无油真空泵替代
 

WinG DOES软件：
- Windows平台运行
- 使用界面简单、易懂，分级管理和操作
- 功能强大
- 方法建立简便，在线指导
- 校准样品管理，样品添加
- 多种校准模式
- 基体总量元素测量校准
- QDP定量分析校准
- 用户定制测量报告模式
- 数据处理和再处理功能
- 多种格式数据输出
- 分析过程中界面语言切换

应用：
- 热处理
   精确测量所关心元素的含量-深度分布，定性、定量检测表面污染物、夹杂物和物相比例
- 涂镀层
   可获得涂镀层完整的化学组分信息、层厚度，元素含量-深度分布。非导体涂镀层，如：油漆、釉等可采用RF光源分析
- 硬质合金层
   快速分析硬质合金层和热处理工件的渗层化学组分
- 陶瓷
   采用RF光源可精确可靠的测量
- 化学组分
   精确测量化学元素含量
   高精度、高重复性检测
   快速分析：<60s
   可分析从H至U的所有元素，检测范围从ppm至99%
- 太阳能电池薄膜
   检测太阳能光伏电池薄膜中化学元素含量分布，如：Cu(In，Ga)Se，采用RF光源可精确可靠的测量

辉光放电光谱仪主要应用领域：
- 汽车制造及零部件
- 金属加工、制造
- 冶金
- 航空、航天
- 电子工业
- 玻璃、陶瓷
- 表面处理：化学气相沉积、物理气相沉积等
- 电镀
- 光伏电池、锂电
- 科学研究