GDA 750 HR/GDA 550 HR是高灵敏度、高性能的光谱仪，可适用于表面和涂镀层的化学元素含量分析。多达79个分析通道，采用PMT检测器，GDA 750 HR/GDA 550 HR型辉光放电光谱仪是高分辨率、高灵活性和高分析精度的仪器，同时可安装的高分辨率CCD光学系统(选装件)，允许同时分析所有元素，具备全谱功能，也可在现有的方法中添加任一元素的任一谱线。这种灵活性在实际分析中，尤其对于元素含量和深度测定中至关重要。

   - 所有元素，包括轻元素(H，O，N，CI，和C)均可测定。

   - 在含量-深度测量中，分析深度可达200um以上，层分辨率可达1纳米。

   - GDA 750 HR/GDA 550 HR也可进行基体总量分析，尤其对于复杂基体，具备优异的线性校准曲线。检出限可达亚ppm级。

   - GDA 750 HR/GDA 550 HR装备有一代的辉光激发光源，溅射直径从1mm至8mm。

   - 采用通用样品夹具，也可进行小样品和异形样品的分析，无需更换特殊电极。

   - GDA 750 HR也可选装配置脉冲式射频光源(选装件)，用于分析非导体材料。采用脉冲式射频光源后，可分析非导体、热敏感样品，如：陶瓷、玻璃、有机涂层、有机薄膜。还可选装配置特殊样品转移室(选装件)，用于分析极薄的薄膜和在空气中易氧化的薄膜。

激发光源：

- 同一激发光源允许安装直径为1mm至8mm电极，从而保证优秀的稳定性和重复性
    高效的样品直接冷却。可直接分析热敏感样品、极薄的金属薄膜和有机薄膜。如可直接分析50um的不锈钢薄膜
- 优化的氩气流量控制，可以同时实现低检出限和高深度分辨率
- 专门设计的自动清扫装置，保证了高精度、高重复性测量
- 样品分析厚度45mm，最小厚度50um
- 程序自动控制的直流光源(DC)，电压可达1500V，电流250mA
- 程序自动控制的射频光源(RF)，功率150W，电压、电流自动监控，实时等离子自动调节、脉冲工作模式(选装件、仅GDA 750有效)
- 选装件：自动进样器，程序控制100位

光学系统：
- 光谱分辨率优于20pm(FWHM)
- 光谱范围：190nm--800nm
- Paschen-Runge光学系统，焦距750mm
- 全息原刻光栅，2400线/mm
- 出射狭缝，预设所有元素通道
- 可同时安装63个分析通道，选用选装件(400mm)，可再附加16个分析通道
- 方便易操作的透镜清洁，可立即进行分析
- 优化的检测器高压系统，定量测试时，线性动态范围106
- 检测器增益自动调节
- 选装件：高性能CCD光学系统，光谱范围200nm--800nm。光谱分辨率可达0.02nm(FWHM)。与主光学系统同时工作
- CCD光学系统可无限制添加分析通道，真正实现全谱同时测量
- 选装件：单色仪，光谱范围可扩展至1500nm。可同时安装3个光栅，独立工作。

真空系统：
- 全不锈钢壳体，可充分保证痕量元素的分析，尤其对于N元素分析
- 光室真空采用二级旋转叶片真空泵，噪音<50dB
- 光源使用无油真空泵，免除C，H，O，S，P等元素污染
- 内置安全阀设计，以避免突然断电对旋转叶片泵的损害
- 选装件：涡轮分子泵

WinGDOES软件：
- Windows平台运行
- 使用界面简单、易懂，分级管理和操作
- 功能强大
- 方法建立简便，在线指导
- 校准样品管理，样品添加
- 多种校准模式
- QDP定量分析校准
- 用户定制测量报告模式
- 数据处理和再处理功能
- 多种格式数据输出
- 分析过程中界面语言切换

应用：
- 热处理
  精确测量所关心元素的含量-深度分布，定性、定量检测表面污染物、夹杂物和物相比例
- 涂镀层
  可获得涂镀层完整的化学组分信息、层厚度，元素含量-深度分布。非导体涂镀层，如：油漆、釉等可采用RF光源分析
- 硬质合金层
  快速分析硬质合金层和热处理工件的渗层化学组分
- 陶瓷
  采用RF光源可精确可靠的测量
- 电镀
  测量电镀层的复杂结构和过渡界面信息，化学组分含量、层厚、质量分布，也可进行缺陷鉴别和分析
- 化学组分
  精确测量化学元素含量
  高精度、高重复性检测
  快速分析：<60s
  可分析从H至U的所有元素，检测范围从ppm至99%
- 太阳能电池薄膜
  检测太阳能光伏电池薄膜中化学元素含量分布，如：Cu(In，Ga)Se2

辉光放电光谱仪主要应用领域：
- 汽车制造及零部件
- 金属加工、制造
- 冶金
- 航空、航天
- 电子工业
- 玻璃、陶瓷
- 表面处理：化学气相沉积、物理气相沉积等
- 电镀
- 光伏电池、锂电
- 科学研究