高真空磁控溅射镀膜机 JCPY500
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高真空磁控溅射镀膜机 JCPY500产品概述
1、适用:大专院校、科研院所及企业进行薄膜新材料的科研与小批量制备。
2、产品特点/用途:
► 设备可溅射/蒸发两用;占地面积小,价格便宜,性能稳定,使用维护成本低;
► 可用于制备单层及多层金属膜、介质膜、半导体膜、磁性膜、传感器膜及耐热合金膜、硬质膜、耐腐蚀膜等;
► 镀膜示例:银、铝、铜、镍、铬、镍铬合金、氧化钛、ITO、二氧化硅等;
► 单靶溅射、多靶依次溅射、共同溅射等功能。
高真空磁控溅射镀膜机 JCPY500、技术参数
型号 | JCPY500 |
真空腔室结构 | 立式前开门结构,后置抽气系统,双层水冷 |
真空腔室尺寸 | Φ500×H450mm,带Load-Lock功能,支持单片或多片进取样 |
加热温度 | 室温~500℃ |
溅射方式 | 向上溅射 |
旋转基片台 | Φ150mm |
膜厚不均匀性 | Φ100mm范围内≤±5.0% |
溅射靶/蒸发电极 | Φ3、Φ4英寸磁控靶2-4支可选 |
工艺气体 | 3路气体流量控制 |
控制方式 | PLC+触摸屏人机界面半自动控制系统 |
占地面积 | (主机)L1800×W800×H1845mm |
总功率 | ≥15KW |
北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来,一直专注于真空设备的研发、设计、制造,是一家集真空薄膜新材料沉积设备、真空技术应用设备等相关设备及其工艺的研发、设计、制造、销售、服务于一体的*。
公司的研发中试孵化基地位于毗邻雄安新区的任丘经济技术开发区,距离未来的雄安高铁站约20公里,占地面积20000㎡,不仅建有包括机加工、电气、结构组装,调试等多个中试生产车间和办公楼以及其它辅助厂房;同时建有研发工艺、服务客户的开放实验室。公司还聘请了国内外真空行业zi深的专家、教授作为本公司的技术顾问,确保真空设备产品高水平,始终保持较强的自主研发能力、*的设计概念、领xian的技术优势。