高真空磁控溅射镀膜机 JCP200设备概述

1、适用：大专院校、科研院所及企业进行薄膜新材料的科研与小批量制备。

2、产品特点/用途：

► 设备可溅射/蒸发两用；占地面积小，价格便宜，性能稳定，使用维护成本低；

► 可用于制备单层及多层金属膜、介质膜、半导体膜、磁性膜、传感器膜及耐热合金膜、硬质膜、耐腐蚀膜等；

► 镀膜示例：银、铝、铜、镍、铬、镍铬合金、氧化钛、ITO、二氧化硅等；

► 单靶溅射、多靶依次溅射、共同溅射等功能。

高真空磁控溅射镀膜机 JCP200技术参数

北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来，一直专注于真空设备的研发、设计、制造，是一家集真空薄膜新材料沉积设备、真空技术应用设备等相关设备及其工艺的研发、设计、制造、销售、服务于一体的*。

公司的研发中试孵化基地位于毗邻雄安新区的任丘经济技术开发区，距离未来的雄安高铁站约20公里，占地面积20000㎡,不仅建有包括机加工、电气、结构组装，调试等多个中试生产车间和办公楼以及其它辅助厂房；同时建有研发工艺、服务客户的开放实验室。公司还聘请了国内外真空行业zi深的专家、教授作为本公司的技术顾问，确保真空设备产品高水平，始终保持较强的自主研发能力、*的设计概念、领xian的技术优势。