产品概述：
纳米级物质成像、分析和控制 — 这些未来研发的关键因素 — 因 Helios NanoLab DualBeam 系列仪器的诞生而变得普通平淡。 这些仪器融合了扫描电子显微镜 (SEM) 和聚焦离子束 (FIB) 技术，包括创新的气体化学、检测器和操纵器。 凭借的 SEM 分辨率、图像质量和令人惊叹的 Tomahawk™ FIB 性能，半导体和数据存储实验室、研究机构和工业界均可轻松快捷地实现样品成像、铣蚀或制备。

主要优点：
•Helios NanoLab 系列仪器代表了 FEI 在场发射扫描电子显微镜 (FESEM) 和聚焦离子束 (FIB) 技术及两者结合使用方面取得的进展。 作为 FEI 的第 11 代 DualBeam 平台，旨在深刻体验全新的超高分辨率二维和三维表征、高质量样品制备和纳米原型制造世界。
•Helios NanoLab 600i 在离子束、电子束、图形和众多功能方面取得显著改进，进而实现实验室标准应用的纳米级铣蚀、成像、分析和样品制备。
•Helios NanoLab 1200 DualBeam 是一款可用于300mm晶片的平台. 在需要保证晶片不受损伤的条件下它有的性能. FEI在完整晶片上的双束DualBeam技术得益于FEI的电子和离子光学, 它可在的高分辨率下完成完整晶片上透射电镜样品制备, 缺陷表征和分析
•Helios NanoLab 450S 极为适合高生产量、高分辨率 S/TEM 样品制备、成像和分析。 的 FlipStage 和原位 STEM 探测器可在数秒内实现从样品制备到 STEM 成像，同时不会破坏真空状态或让样品暴露于环境。