徕卡低真空镀膜仪-Leica EM ACE200
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面议| 徕卡低真空镀膜仪-Leica EM ACE200性能 | ||
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| • *重现结果：运行自动化的进程，并协助参数设置 • 小巧紧凑：设计紧凑，占地面积小节省了实验室空间 • 容易清洗：具备可拆卸门、卷帘、内部屏蔽、光源、 载物台 • 操作简便：直观的触摸屏和一键式操作 | ||
| 徕卡低真空镀膜仪-Leica EM ACE200技术参数 | ||
| 可任选离子溅射模式、碳丝蒸发镀碳模式，或者双模式， 可选辉光放电（用于网格表面亲水化） | ||
| *设计脉冲式碳丝蒸发方式，可准确控制碳膜厚度 | ||
| 可选石英膜厚检测器，准确控制镀膜厚度，精度达0.1nm | ||
| 全自动程序控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等过程 | ||
| 触摸屏控制，简单方便 | ||
| 真空度≤7x10-3mbar | ||
| 溅射电流：0-150mA可调 | ||
| 方形样品仓创新设计，样品仓尺寸：140mm（宽）x145mm（深）x150mm（高） | ||
| 工作距离调节范围：30-100mm | ||
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