多点取样激光氨逃逸在线分析系统

一、项目概述

      脱硝喷氨过程需要准确监测氨逃逸浓度，针对大型机组脱硝反应器出口烟道较大，为使测量更具代表性，可采用多点取样方式监测氨逃逸。用户根据多点氨逃逸的测量数据，优化、调整喷氨工艺，提高脱硝效率。多点取样是指采用多个取样系统采样后混合或者轮流进入分析系统测量。

二、测量原理

      系统采用可调谐半导体激光吸收光谱（TDLAS）技术进行NH₃的测量，以可调谐激光器作为光源，发射出特定波长激光束，穿过待测气体，通过分析被测气体中NH₃分子吸收导致的激光光强衰减，根据朗伯比尔定律，气体浓度与其吸收光强成比例关系，从而实现高灵敏快速精确监测待测气体中NH₃浓度。因为激光谱宽特别窄（小于0.0001nm），且只发出待测气体吸收的特定波长，使得测量不受测量环境中其它成分的干扰，相比其它复合光源而言，具有的测量精度。

   朗伯比尔定律：    

   其中光谱吸收系数：

三、测量方案

      根据脱硝氨逃逸测量点高温、高湿、高粉尘、震动等工况特点以及测量浓度低、测量精度要求高等要求，产品采用大方科技经典的抽取+多反长光程测量技术，烟气通过多个采样系统取样后混合或者轮流进入分析单元测量分析。采用抽取方式可以避免烟尘和烟道震动等对测量的影响。烟气流经管路及样气室全部采用高温加热，保证烟气取样过程中无氨气吸附。分析单元采用多次反射样气室，测量光程可达30米，可大大提高测量精度。 

四、系统特点

1 采用TDLAS技术，不受背景气体影响

      系统采用可调谐二极管激光吸收光谱技术进行气体的测量，由于激光谱宽特别窄（小于0.0001nm），且只发射待测气体吸收的特定波长，使测量不受测量环境中其它成分的干扰。

2 系统无漂移，避免了定期校正需要

      系统采用波长调制光谱技术，并且进行动态的补偿，实时锁住气体吸收谱线，不受温度、压力以及环境变化的影响，不存在漂移现象。

3 全程高温伴热，避免氨气吸附损失

      抽取式测量的分析方式采用全程高温伴热，确保无氨气吸附损失。

4 采用多次反射样气室，极大地提高测量精度

      系统采用多次反射测量池技术，光程可达30米，极大地提高了测量精度。

5 取样更有代表性

      根据烟道尺寸和用户需求，选择多个取样点进行监测，探杆插入深度可根据烟道宽度进行调整，取样更有代表性。

6 多点监测

      可设定多个监测点，分时轮流取样分析或多个监测点同时混合取样分析，多个监测点的数据可以通过模拟量实时传输到DCS。

7 自动反吹

      具备自动反吹控制，反吹间隔和反吹时长根据工况设置，取样结束后，对各点探头依次轮流反吹，有效避免滤芯堵塞。

8 技术，便于维护光学器件

      大方科技*的样气室设计，包含维护窗口，可以在不影响光路的情况下，对污染的光学器件进行清洁，无需重新调节光路，让维护更加快速方便。

9 仪表自检及自恢复功能

      大方科技分析仪带有智能自检及自恢复功能，软件可以自动探测分析仪的测量异常状态，可以通过自检及自恢复，使分析仪重新恢复测量工作状态。

10 自主知识产权

      大方科技深耕TDLAS技术领域20年，针对国内应用现场监测难点进行专业和定制化开发，拥有数十项发明和软件著作权，对产品拥有自主知识产权，产品具有高可靠性和适用性。

五、典型应用：

      大型机组、自备电厂脱硝氨逃逸监测