产品简介
混合气体化学气相沉积CVD系统由高温管式炉,真空压强控制系统,多通道高精度数字质量流量控制系统,过压保护及冷凝等部分组成,可实现真空达0.1mbar混合气体化学气相沉积和扩散试验。
详细介绍
功能特点：
由高温管式炉，真空压强控制系统，多通道高精度数字质量流量控制系统，过压保护及冷凝等部分组成，可实现真空达0.1mbar混合气体化学气相沉积和扩散试验。
产品用途：
适用于高校、科研院所用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备，生长薄膜石墨烯，金属薄膜，陶瓷薄膜，复合薄膜等，也可作为扩展等离子清洗刻蚀使用
产品参数
- 机器电源：AC220V，50/60Hz；
- 额定功率4kw
- 炉管：高纯石英管，高温下化学稳定性强，耐腐蚀，热膨胀系数极小，能承受骤冷骤热的温度变化；
- 炉管尺寸：Φ80*/1000mm
- 加热元件：0Cr27Al7Mo2
- 加热区长度：400mm(可定制)
- 恒温区长度：200mm(可定制)
- 工作温度：≤1150℃
- 升温速率：≤10℃/min
- 温控系统：温度控制采用人工智能调节技术，具有PID调节、自整定功能、30段升降温程序
- 测温元件：N型热电偶
- 恒温精度：±1℃
- 保护及提醒：超温、断偶故障警报及断电保护、高精度质量流量计通过数据接口连接电脑，配置软件实时人机交互界面
- 混气系统：四通道质量流量控制，可同时通入四种不同气体、内置不锈钢混气箱，每路气体管路均配有逆止阀、每路气体进气管路配有不锈钢针阀
- 流量规格：0~30SLM
- 控制精度：±1.0％F.S
- 极限真空：6.0×10-5Pa
- 工作真空：7.6×10-4Pa
- 冷凝系统：采用低温恒温槽，温度可达-20℃、内置不锈钢真空冷凝灌，采用KF接头，清理收集方便、槽内冷液可外引,冷却机外实验容器,也可在槽内直接进行低温、恒温实验
