英国Cressington/US TedPella 208HR 高分辨离子溅射仪-适用于场发射扫描电镜

一、主要特性

。可选择多种镀膜材料

。精确的膜厚控制

。样品台控制灵活：可对样品台进行独立的旋转、行星式转动、倾斜控制，保证形貌差异大的样品也能得到的镀膜效果。

。多个样品座：提供4个样品座，每个样品座直径32mm，可装载多达6个小样品座。

。样品室几何可变： 样品室几何用于调节镀膜的速率（1.0nm/s ～ 0.002nm/s）

。宽范围的操作压力：独立的功率和压力调节，氩气的压力大小范围为0.2 - 0.005 mbar。

。紧凑、现代的桌上型设计

。操作容易

二、技术参数

208HR高分辨离子溅射仪为场发射扫描电镜应用中遇到的各种样品喷镀难题提供真正的解决方案。

场发射扫描电镜观察时，样品需镀上极其薄、无细晶且均匀的膜层以消除电荷积累，并提高低密度材料的对比度。为了将细晶的尺寸减小到最小程度，208HR提供了一系列的镀膜材料，并对膜厚和溅射条件提供无可媲美的控制。

208HR分子涡轮泵高真空系统提供宽范围的操作压力，可以对膜层的均匀性和一致性进行精确控制，并减小充电效应。高/低样品室的结构设计使靶材和样品之间的距离调节变得极为方便。

MTM-20高分辨膜厚控制仪分辨率小于0.1nm，其作用是对所镀薄膜的厚度进行精确控制，它尤其适合场发射电镜对膜厚（0.5－3nm）的要求。

场发射扫描电镜镀膜推荐的靶材是：

。Pt/Pd：非导电样品镀膜的通用镀膜材料

。Cr：优良的半导体样品的镀膜材料

。Ir：优良的真正无细晶的镀膜材料

208HR系统为得到高分辨镀膜效果提供了多种配置选择，可配备标准的旋片泵或提供干净真空的无油涡旋式真空泵，标配的208HR包含Cr 和 Pt/Pd靶。

真空系统：

超高分辨208HR镀膜系统是现在针对场发射电镜非导电样品镀膜处理以及高性能电极薄膜制备的的解决方案。为了减小喷镀颗粒尺寸对成像分辨率影响，208HR提供一套全系列的镀膜靶材材料和的膜厚镀层控制条件，以达到无颗粒镀膜效果。而为了更小优化非导电样品表面充电的效果，208HR的特殊样品台设计和大范围的操作压力提供了高精度的镀膜一致性和统一性。 高低样品室的配置也提供了更为方便的工作距离调整。

Cressington 208HR High Resolution Sputter Coater

The 208HR High Resolution Sputter Coaters from Cressington offer real solutions to the problems encountered when coating difficult samples for high resolution FESEM imaging. High resolution FESEM applications need extremely thin, grain-free, uniform coatings to eliminate charging and to improve contrast on low density materials. In order to minimize the effects of grain size the 208HR offers a full range of coating materials and gives unprecedented control over thickness and deposition conditions. The 208HR Turbo Pumped High Vacuum System offers a wide range of operating pressures allowing precise control of both uniformity and conformity of the coating, minimizing charging effects. The HIGH / LOW chamber configuration allows easy adjustment of the distance from target to sample.

靶材：Pt Target; 铂靶;

镀膜监控仪：

超高分辨膜厚监控仪MTM-20系统

MTM-20系统是紧凑型易操作膜厚监控仪。原理上是为电镜制备样品设置，可以适合多用途的镀膜系统。她存储两个镀膜参数。分辨率优于0.1nm。

High resolution thickness controller MTM-20

The MTM-20 is a compact, low cost thickness monitor. Originally designed for electron microscopy applications, it is also suitable for multiple use in complex deposition systems. It stores parameters for two deposition materials. Resolution better than 0.1nm.

旋转倾斜样品台：

208HR旋转倾斜样品台有利于得到更好更均匀镀膜层，可控制旋转速度和倾斜角度。

208HR R-T stage with variable rotation speed control and external tilt adjustment.