台式匀胶机

台式匀胶机

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具体成交价以合同协议为准
2024-03-15 14:45:45
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深圳市邦企创源科技有限公司

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产品简介

台式匀胶机适用于微电子、半导体、制版、新能源、生物材料、光学及表面涂覆等工艺,主要应用于溶胶-凝胶(sol-gel)实验中的薄膜制作,其工作原理是高速旋转基片,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂布在基片上,厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同,

详细介绍

  晶圆匀胶机/喷胶机,台式匀胶机产品均采用触摸屏加高级PLC程序控制系统,可编程分步运行,精确控制,方便易用;,采用CNC一体化加工成型,内腔内壁呈凹面,有效防止胶液回溅。用于实验室、旋涂、清洗、显影、热板。桌面型匀胶机是一款台式半自动匀胶机系统,功能强大,具有匀胶、清洗、显影和干燥等多种功能,样品尺寸为8寸晶圆或者150mm*150mm方片。

台式匀胶机

  台式匀胶机产品特色

  1. 落地台式机,结构紧凑,所有单元集成在一台设备中,集成度高。

  2. 手动装载/卸载

  3. 衬底可达 Ø200 mm (Ø8 inch) 或 150 x 150 mm (6 x 6 inch)

  4. 软件提供用户友好的操作

  5. 直驱旋涂电机

  6. 全轴电机驱动且可编程

  7. 带安全中断传感器的透明盖

  8. 外壳上有电源开关 ON / OFF

  9. 工艺腔和可更换防溅环,易于拆卸以进行清洁。

  10. 系统材料为PP材质,耐所有类型的抗蚀剂和溶剂以及各种清洁介质。

  11. 包括 0.5 升废液瓶

喷胶机细节图

   晶圆匀胶机 技术数据

  1. 衬底尺寸: 可达 Ø200 mm (Ø8 inch) 或 150 x 150 mm (6 x 6 inch)

  2. 电机转速: 10.000rpm, 步长 1 rpm

  3. 电机加速: 4.000 rpm/s

  4. 步进时间: 1 至 999.9 s,步长为 0.1s

  5. 工艺腔材质: 由天然 PP 制成

  6. 系统架构材质: 由白色 PP 制成

  7. 液体线路:

  8. 3线: 2 x 24 V / 1 Amp (每条) / 触发点 0.1 秒 - ∞

  9. 5线: 6 x 24 V / 1 Amp (每条) / 触发点 0.1 秒 - ∞

匀胶机工作图

  匀胶设备可选配项

  1. 自动液体输送臂 2. 液体罐 3. 防溅环

  4. 废液池 5. DI水冲洗 6. N2吹扫

  7. 热板 8. 不同类型的夹具 9. 中心定位模块

匀胶设备选配

  匀胶机如何选购

  匀胶工艺中最重要的一个因素就是可重复性。滴胶之后,下一步是高速旋转。使光刻胶层变薄达到最终要求的膜厚,这个阶段的转速一般在1500-6000转/分,转速的选定同样要看光刻胶的性能(包括粘度,溶剂挥发速度,固体含量以及表面张力等)以及基片的大小。

  快速旋转的时间可以从10秒到几分钟。匀胶的转速以及匀胶时间往往能决定最终胶膜的厚度。一般来说,匀胶转速快,时间长,膜厚就薄。影响匀胶过程的可变因素很多,这些因素在匀胶时往往相互抵销并趋于平衡。微细的工艺参数变化会带来薄膜特性巨大的差异,下面对一些可变的因素进行分析:

匀胶机结构图

  匀胶机旋转速度 :

  匀胶转速是匀胶过程中最重要的因素。基片的转速(rpm)不仅影响到作用于光刻胶的离心力,而且还关系到紧挨着基片表面空气的湍动和基片与空气的相对运动速度。光刻胶的最终膜厚通常都由匀胶转速所决定。

  尤其在高速旋转这个阶段,转速±50rpm这样微小变化就能造成最终膜厚产生10%的偏差。膜厚在很大程度上是作用于液体光刻胶上﹑方向朝基片边缘的剪刀力与影响光刻胶粘度的干燥(溶剂挥发)速率之间平衡的结果。

  随着光刻胶中溶剂不断挥发,粘度越来越大,直到基片旋转作用于光刻胶的离心力不再能使光刻胶在基片表面移动。到这个点上,胶膜厚度不会随匀胶时间延长而变薄。

匀胶机细节图

  匀胶机规格要求在量程范围内无论选择哪个速度匀胶转速偏差不大于±1rpm。而通常实际偏差是±0.2rpm。而且,所有的控制程序和转速显示的分辨能力都是1rpm。

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