GVC-2000T高真空磁控离子溅射仪-北京格微仪器有限公司手机版

详细介绍

描述

全自动知识产品

没有热损伤，效率更高，颗粒度更细，更适合高分辨电镜

应用领域

设备配置与技术参数

名称&型号	高真空磁控离子溅射仪GVC-2000T
真空系统	涡轮分子泵（进口）：德国莱宝90i （单磁悬浮分子泵，抽速为90L/s）旋片式真空泵：浙江飞越VRD-4 （抽速为 1 .1L/s）
真空测量	全量程复合真空规（进口）：1.0E5Pa-1E-4Pa
系统极限真空	≤5E-3Pa
溅射电源	磁控溅射电源,功率150W
可用靶材	所有金属靶材，ITO靶材
溅射电压	300-600V,根据选择靶材、控制参数不同而变化
溅射电流	0-200mA连续可调,步长5mA
溅射时间	0-9999s, 连续可调步长1s
操作界面	7英寸TFT彩色液晶触摸屏,分辨率800×480
操作方式	一键操作
抽气节拍	＜15分钟
控制方式	只需设定溅射电流和时间即可，全自动控制具备预溅射挡板（预溅射时间可设定),全自动控制
保护功能	软硬件互锁、防止误操作，具备电流、真空保护等
样品台直径	φ125mm，可自转，可自动手动控制，转速4-40rpm可调
真空室	高硅硼玻璃，规格尺寸约φ200×130mm
电源供电	220V 50Hz 功率800W
尺寸&重量	重量 424（长) ×345（深) ×420mm（高）、 25 kg （净重)
冷却方式	内部风冷
选配	样品台选择、膜厚控制、温度监测等