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GVC-2000TD高真空磁控离子溅射仪
描述产品优势：可制备各种金属、单质、无机非金属薄膜不破真空情况下 参考价面议 -
GVC-2000磁控离子溅射仪2
描述基本无温升、样品表面无热损失GVC-2000制样效果图其他制样设备效果图上面两张图片为滤膜类样品的电镜图片 参考价面议 -
GVC-1000全自动离子溅射仪
描述全自动操作，简单易用，非常适用钨灯丝、台式扫描电镜等溅射电流自动调整设定溅射电流后，系统自动调节真空度，从而达到设定的溅射电流，调整时间＜5s，波动范围＜5%；无需按实验键调整溅射电流、无需操作进气阀 参考价面议 -
GVC-2000磁控离子溅射仪
描述基本无温升、样品表面无热损失GVC-2000制样效果图其他制样设备效果图上面两张图片为滤膜类样品的电镜图片 参考价面议 -
GVC-2000T高真空磁控离子溅射仪
描述全自动知识产品没有热损伤 参考价面议