硅片热台 RT400XRD

硅片热台 RT400XRD

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2023-02-06 08:28:03
144
产品属性
关闭
霍兹仪器技术(上海)有限公司

霍兹仪器技术(上海)有限公司

免费会员
收藏

组合推荐相似产品

产品简介

硅片热台 RT400XRD

详细介绍

温度范围:室温~400℃

加热平台:φ200mm

平面射角:-40°≤α≤40°,射线垂面射角:-2°≤β≤70°

升温速率<5℃/min

主测温:热电偶,红外测温(辅助)

温度显示/控制精度:0.1℃/0.5℃

实验环境:腔体密闭,可充气氛

冷却方式:循环水冷

温度控制:调节器精度0.2级,PID人工智能控制,50段程序

温控软件:中英文界面切换,实时操控,多点温度校正、可设置温速、控温区间等,工艺曲线显示与记录

运动控制仪:一轴热台水平移动,一轴热台旋转,一轴红外测温移动。手动或软件操控。


热线电话 在线询价
提示

请选择您要拨打的电话: