离子减薄仪-北京依维特技术服务有限公司手机版

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产品简介

设备介绍离子减薄仪（PrecisionIonPolishingSystem），为整套TEM样品制备的道工序，经氩离子减薄的样品可在TEM下直接观察，入射角可以从10至-10，制样速度快，能够以最小的耗费制备出高质量的TEM样品；仪器操作方便快捷；配备了低能量离子枪功能，尤其适合对能量敏感性样品的减薄

详细介绍

设备介绍

离子减薄仪（Precision Ion Polishing System ），为整套TEM样品制备的道工序，经氩离子减薄的样品可在TEM 下直接观察，入射角可以从10°至-10°，制样速度快，能够以最小的耗费制备出高质量的TEM样品；仪器操作方便快捷；配备了低能量离子枪功能，尤其适合对能量敏感性样品的减薄。

仪器型号

美国 GATAN Gatan691

技术参数

光束直径5keV 下350μm
离子电流密度 10mA/cm2
样品尺寸3mm或2.3mm
减薄角度+10° 到 -10°
离子束能量100eV 到6.0 KeV

案例展示

应用范围

离子减薄仪（Precision Ion Polishing System ），主要用于陶瓷、半导体、金属和合金等多种材料的透射电子显微镜样品的制备。