单靶磁控等离子溅射仪VTC-16-D

· 体积小巧，操作简单，易上手

· 拥有小型磁控靶头，可以镀金、银、铂等金属

·输入电源：220V，50/60HZ

· 功率：＜1000W

· 溅射电流：0-80mA可调

· 输出电压：DC 500V

· 石英腔室尺寸：外径φ166mm×内径φ150mm×高150mm

· 采用氟胶O型圈密封

· 法兰盖上安装了一个可手动操作的挡板，用于靶材的预溅射。一个φ6.35的卡套接头为进气口，用于连接进气管。一个手动放气阀用于往石英腔体内部充入空气。

· 一个不锈钢网罩罩住整个石英腔体，以屏蔽等离子体

·通过调节壳体右侧的微量精密调节阀控制进入石英腔体内部工作气体的流量，从而达到调节腔体内部的真空度

· 通过调节壳体右侧的电位器，实现对溅射电流大小的控制。

· 一个2英寸不带水冷的磁控溅射靶头 ，磁控溅射靶头的使用温度为80度，超过80度磁控靶头会失去磁性而不能工作。

· 溅射时间 :1-120s可调                           

· 标配一块铜靶

· 靶材尺寸要求：φ2″*（0.5-5）mm厚度

· 适合溅射Au,Ag,Cu,等金属（可在我公司选购）

· 一个上下高度可调的样品台，样品台与靶材之间的可调距离为25-70mm

· 样品台尺寸：φ2英寸

· 样品台可以选配加热功能，加热温度500度；

· 测量范围：1*10-4 mbar—1000 mbar（1*10-4—750 torr）

· 准确度：1000mbar—20 mbar（读数的30%）

           20—0.002mbar （读数的2%）

· 重复性：20—0.002mbar （读数的2%）

· 使用湿度：30℃环境下≤80%  40℃环境下≤50%无冷凝气体；

· 使用温度：5℃—60℃

· 一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上，可实时监测薄膜的厚度，分别率为0.10 Å

· LED显示屏显示，同时也输入所制作薄膜的相关数据

· 型号：VRD-8

· 抽气速率：2.2 L/S

· 电机功率：370 W

· 极限压强：5×10^-1Pa（不带负载）

· 实际压强：≤5 Pa（冷态下机械泵抽20分钟）

· 如果想要获得更高的真空度（10^-5toor or better）可选购国产或进口高真空机组

· 为了达到理想的薄膜厚度，可进行多次溅射镀膜

· 在溅射镀膜前，确保溅射头、靶材，基片和样品台的洁净

· 需要达到薄膜与基底良好结合，则在溅射前清洁基材表面

500*350*550mm（长*宽*高）

约20KG（不包含真空泵、水冷设备）

· 一年保修，终身技术支持

1、耗材部分入加热元件、石英管、样品坩埚等不包含在保修范围内

2、因使用腐蚀性气体和酸性气体造成损坏不在保修范围内