SM-150SM-150 手动匀胶机

SM-150 是手动或半自动薄膜涂覆的优选，适用于表面没有或有非常低形貌的基板涂胶作业。大多光刻胶与涂层材料都可被均匀涂覆到尺寸为150 mm (6”)的晶圆或尺寸为127 × 127 mm (5” × 5”)的基板上。工艺腔设计可满足直径为176 mm。 参考价面议

SE 400advSENTECH-激光椭偏仪 - (SE 400adv)

激光椭偏仪 SE 400adv 测量透明薄膜的厚度和折射率指数，具有测量速度、亚埃级别的厚度精度和折射率测定的精度。多角度测量允许使用激光椭偏仪 SE 400adv 表征吸收膜特征。 参考价面议

SENproSENTECH-光谱椭偏仪 - (SENpro)

光谱椭偏仪 SENpro 具有操作简单，测量速度快，能对不同入射角的椭偏测量数据进行组合分析等特点。光谱范围为 370 到 1050 nm。SENpro 的光谱范围与精密的 SpectraRay/4 软件相结合，可轻易地确定单层膜和复合层叠膜的厚度和折射率。 参考价面议

SENresearch 4.0SENTECH-光谱椭偏仪- (SENresearch 4.0)

SENresearch 4.0 是 SENTECH 新的光谱椭偏仪。每一台 SENresearch 4.0 光谱椭偏仪都是根据客户具体配置的光谱范围、选项和现场可升级附件而制造的。 参考价面议

SM-200SM-200 半自动匀胶机

半自动匀胶机 SM-200 可处理没有或表面结构非常低的衬底。SM系列，拥有高水平的均匀性和重复性。所有商业光阻剂都可被均匀涂布。针对多种多样的应用设计的专用卡盘，有助于提高在基材选择方面的高度灵活性和可使用性。 参考价面议

nanoTOF 3nanoTOF 3 飞行时间质谱仪

nanoTOF 3 是新一代的 TOF-SIMS，拥有新外观、紧凑设计，以及更强性能。 参考价面议

XPert³ MRDX'Pert³ MRD 高分辨X射线衍射仪

高分辨率X射线衍射仪，主要用途为测量 Si, Ge, SiC, GaN, InGaN, AlGaN, GaAs, InP, AlN, GaSb 等化合半导体材料的单晶和外延层材料的结晶完整性，外延层及相应半导体器件结构的组分、厚度、弛豫度等参数的测定，外延结构的晶格失配及应变状态分析，X-Y map均匀性分析，双轴晶和三轴晶X射线衍射，对称和非对称扫描，Out-of-plane 和 In-plan...... 参考价面议

SV50 / SV200Strain Viewer 内应力检测仪

Strain Viewer 内应力检测仪具备透光材料内应力分布测量及缺陷筛查等检测功能。 参考价面议

ADEPT 1010ADEPT 1010 动态二次离子质谱仪

动态二次离子质谱仪（D-SIMS）是使用一次离子束（通常是Cs源）轰击样品表面，而产生二次离子，然后用质谱分析仪分析二次离子的质荷比（m/q），从而得知元素在样品中的深度分布，是分析半导体掺杂和离子注入的有力的工具。 参考价面议