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介绍：
1)显微镜 LED曝光系统 UTA系列，为不需使用光罩即可以完成Pattern曝光的投影式曝光设备。
2)使用金相显微镜和 LED 光源 DLP 光机，即可在涂布光阻的基板上进行数个微米 分辨率的曝光。
3)Pattern 形状可以使用计算机绘图自由制作。
4)可在一般环境操作，样品外观及尺寸限制小，价格比一般电子束曝光机更便宜、方便性更高，可以大幅降低研发成本。
特色：
1、使用显微镜和 DLP 组合之曝光系统，可比既有系统拥有更具竞争性之价格。
2、软件操作简便，可以自由绘制曝光Pattern。
3、透过物镜倍率选择，调整曝光范围大小与分辨率。
4、可以制造微米等级尺寸的 Pattern 。
使用案例：
√形成薄膜 FET 以及 Hole 效果量测用试料之电极。
√Mo 原石取出薄片，形成原石特性评估的电极。
