紫外光刻机
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URE-2000/17/25/35/34AL紫外光刻机

参考价: 订货量:
300000 1

具体成交价以合同协议为准
2024-04-09 09:38:32
280
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产地:国产;
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国产
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北京中科复华科技有限公司

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产品简介

光刻机可广泛用于MEMS和光电子,例如LED生产。它经过特殊设计,方便处理各种非标准基片

详细介绍

1. 技术参数

UV光源:进口LED模块

曝光中心波长:365nm

光源平行性:

曝光分辨率:0.8um-1um

曝光能量密度:>35mW/cm²可调

照度不均匀性:≤2.5%(150mm范围)

曝光面积:160mm*160mm

光源寿命:2万小时

曝光设定:定时

曝光头工作模式:曝光位对准位自动切换(前后移动)

套准精度:±0.8-1 um

可执行曝光模式:真空接触、硬接触、压力接触、接近式,

间隙设定方式:数字设定曝光间隙,自动分离和消除间隙

样片、掩模版相对移动范围:X: ±5mm, Y: ±5mm, θ=±6º

掩模版找平方式:球气浮自动找平

可支持掩模版尺寸: 3″×3″4″×4″5″×5″7″×7″ 各一件

标配承片台  2英寸、3英寸、4英寸6英寸

标准配件可兼容样片厚度:0.1-6mm,其他尺寸可定制

可设计工作厚度:50mm

双目双视场对准显微镜或者光学镜头+CCD+显示器:可通过目镜目视对准,也可通过CCD+显示器对准,光学合像,光学倍数400倍,光学+电子放大800倍,物镜三对:4倍、10倍、20倍,目镜三对:10倍、16倍、20倍

双物镜可调距离范围:30mm-120mm

显微扫描范围:Y:±40mm电动,数字设定)

 设备尺寸:≤700mm


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