HMDS烘箱  图像反转系统 HMDS涂胶机

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JS-MOL00 HMDS烘箱 图像反转系统 HMDS涂胶机

型号
JS-MOL00
参数
材质:316L不锈钢 工作室尺寸:45mm 功率:2500 类型:真空 适用范围:MEMS,氮化镓,砷化镓,半导体 温度范围:230℃
上海隽思实验仪器有限公司

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上海隽思实验仪器有限公司(以下简称“隽思仪器”)是一家专业从事仪器设备研发、生产、销售及服务的企业。主要生产半导体工艺设备、环境模拟仪器设备、线缆试验机、橡塑试验检测设备、黑蒜设备等的高新技术型企业,具有很强的自主开发、设计能力,服务于电子、电力、通讯、环保、农业,建筑,节能等行业;多年来,公司以“真挚的服务、优质的品质”为宗旨,为国内外广大用户提供了周到的售前、售中、售后服务。赢得了国内外客户的*好评,更为我们业务的快速发展奠定了一定的基础。我们的服务也更精益求精,更完善!
 隽思仪器主要业务有HMDS预处理系统,HMDS烘箱,洁净烤箱,百级洁净烘箱,氮气烘箱,高温无氧烘箱,真空无氧烘箱,无尘无氧化烘箱,抗粘剂涂胶机,精密恒温加热台,快速高低温气流仪,超低温试验箱高低温试验箱,高低温交变湿热箱定做,HMDS真空涂胶烘箱,低温脆性检测仪,黑蒜发酵设备,导体直流电阻测试仪,电线电缆检测仪器,真空烘箱,黑蒜试验机,橡塑检测试验机等。
    不断追求技术进步、提升专业服务能力,做一个专业的仪器设备供应商是我们的发展目标。企业内部实施了CRM、ERP项目管理,在产品开发、质量控制、集成供应链、人力资源管理、财务管理等诸多方面取得了长足发展。同时建立了标准化的服务流程,形成了覆盖全国的快速服务网络,以尽心尽责的服务理念和完备的技术得到用户的*称赞。我们将珍视每一次与您合做的机会,以饱满的热情、真诚的服务与您共创灿烂的未来!





详细信息

HMDS烘箱  图像反转系统 HMDS涂胶机用途

  使用HMDS(六甲基二硅氮烷)对晶圆表面进行快速、均匀、经济高效的涂布,以提高光刻胶的附着力。这些多功能系统还支持图像反转,形成具有与正光刻胶相同的分辨率和易用性的负图像。

HMDS烘箱  图像反转系统 HMDS涂胶机应用行业

MEMS系统

CVD薄膜;

光刻

用于光刻胶附着力的 HMDS 

作为聚合物和基材之间的粘合层

作为印章和聚合物材料之间的非常薄和保形的离型层;

喷墨

防止墨水积聚在喷嘴面板上,确保墨水流动不受限制;

生物MEMS

亲水性和生物相容性CVD薄膜可用于改善润湿性,或防止蛋白质吸收,或减少器件性能的“漂移”

微阵列芯片的硅烷/底物粘附:DNA、基因、蛋白质、抗体、组织;

光学和 AR/VR 应用

修改光学特性

创建纳米压印层或钝化层;

图像反转

金属剥离工艺,用于WLP、RDL和掩模制造操作中的无蚀刻工艺;

HMDS烘箱  图像反转系统 六甲基二硅氮烷涂胶机技术性能

    材质:内箱采用316L医用级不锈钢

    工艺温度:100-150℃

    温度分辨率:0.1℃

    温度波动度:≤±0.5

    真空度:≤133pa(1torr)

    操作界面:人机界面,一键作业

    层数:2层

    HMDS控制:可控制HMDS药液的添加量

    图像处理:图像反转

    真空泵: 进口无油泵

    保护装置:紧急停止,HMDS药液泄漏报&警提示,HMDS低液位报&警,超温保护,漏电保护,过热保护等


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产品参数

材质 316L不锈钢
工作室尺寸 45mm
功率 2500
类型 真空
适用范围 MEMS,氮化镓,砷化镓,半导体
温度范围 230℃
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