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CRTM-9200 ulvac-kiko 水晶振荡式成膜器 成膜控制器
- 型号
- CRTM-9200
- 参数
- 产地:国产
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详细信息
ulvac-kiko 水晶振荡式成膜器 成膜控制器 CRTM-9200
ulvac-kiko 水晶振荡式成膜器 成膜控制器 CRTM-9200
CRTM-9200作为CRTM-9100G的后继机，继承了前机型的功能和设计，维持了兼容性。
优秀的膜厚及成膜速率分辨能力（0.0022A），是实现了低速率蒸发控制和高精度的膜厚控制的水晶振荡式成膜控制器。
最多可同时控制4个蒸发源。
特点
优异的膜厚和速率分辨率（0.0022A）使其成为低速蒸发成膜控制的理想选择。
可以同时控制4个蒸发源。 （添加选项时）
可实现多层膜厚控制，最多可达99层。
程序可以保存到USB中。
通过使用多层计算功能（MLC功能）对于在石英板上的多层成膜，可以精确地测量膜厚度。
用途
蒸发时的膜厚及速率控制
采用特的测量方式，实现了高速测量和机体的小型化。
我们的产品阵容包括特的便携式，自动式和对应真空环境的设备内置式类型。
UNECS-Portable，测量部的重量只有2.2kg重量轻且紧凑，是易于携带的便携式类型。
可用于真空设备现场验收试验，可以通过分离样品台直接放在样品上进行大尺寸样品的测量。
特点
高速測定：
独的快照方法可实现高达20 ms的高速测量。
适用于可见光谱：
波长范围可选标准类型（530nm至750nm）和可见光谱类型（380nm至760nm）。
紧凑型传感器单元：
光发射和接收的传感器仅由没有旋转机构的光学部件组成，因此非常轻且紧凑，并且不需要定期维护。
丰富的产品阵容：
产品阵容应用广泛，包括如独的便携类型，手动/自动平台类型，大型基板类型，以及支持大气/真空环境的内置类型。
用途
透明或半透明薄膜（氧化膜，氮化膜，抗蚀剂，ITO等）的膜厚，折射率，消光系数的测量
规格
| 波长范围 | 530 ～ 750nm、380 ～ 760nm（选择） | |
| 点径 | Φ1mm、Φ0.3mm（选择） | |
| 入射角度 | 70o固定 | |
| 膜厚再现性 | 1σ = 0.1ｎｍ | |
| 膜厚范围 | 1nm ～ 2μｍ | |
| 测量时间 | 受光：20ms ～ 3000ms 演算：300ms | |
| 平台 | 固定类型（Φ150mm以下、可拆卸） | |
| 控制PC | 笔记本类型（带操作/分析软件） | |
| 机器构成 | 测量本体（带固定台）、控制器BOX、光源单元 操作PC（笔记本型）、使用说明书（CD） | |
