- 面议
参考价：
起订量：
前道涂胶显影设备
- 型号
清洗设备
盛美成立于2005年，是一家注册在上海浦东新区张江高科技园区、具备领先技术的半导体设备制造商。公司集研发、设计、制造、销售于一体，主要产品包括半导体清洗设备、半导体电镀设备和先进封装湿法设备等。公司坚持差异化竞争和创新的发展战略，通过自主研发的单片兆声波清洗技术、单片槽式组合清洗技术、电镀技术、无应力抛光技术和立式炉管技术等，向全球晶圆制造、先进封装及其他客户提供定制化的设备及工艺解决方案，有效提升客户的生产效率、提升产品良率并降低生产成本。
盛美具有高新技术企业资质，承担十一五国家科技重大专项课题“65-45nm铜互连无应力抛光设备研发项目”的研发和十二五国家科技重大专项课题“20-14nm铜互连镀铜设备研发与应用”和“45-22纳米单片晶圆清洗装备研发与应用”的研发。公司立足自主创新，通过多年的技术研发和工艺积累，成功研发出首个的 SAPS/TEBO 兆声波清洗技术和 Tahoe 单片槽式组合清洗技术，可应用于 28nm及以下技术节点的晶圆清洗领域，可有效解决刻蚀后有机沾污和颗粒的清洗难题，并大幅减少浓硫酸等化学试剂的使用量，在帮助客户降低生产成本的同时，满足节能减排的要求。
盛美凭借先进的技术和丰富的产品线，已发展成为中国大陆少数具有一定国际竞争力的半导体专用设备提供商，产品得到众多国内外主流半导体厂商的认可，并取得良好的市场口碑。
详细信息
前道涂胶显影设备
主要优势
自主保护立体交叉结构（号：.9），提高设备产出率WPH
采用自主设计，优化整机内部气流分布，减少颗粒污染
精准控制涂胶量，减少光刻胶的消耗
具备多次回吸功能，能够有效防止喷嘴口结晶
腔体配备独立排气装置，能够提高光刻胶膜厚的均一性，减少Wet-Particle
配备自主研发的多分区控制的高精度热板
自主研发的控制软件，可优化晶圆传输路径，缩短传输时间
搭载缺陷检测功能，可及时发现问题
搭载机械手工位auto-teaching功能，提高效率
支持主流光刻机接口
特性和规格
可适用于300mm晶圆清洗
可配置4个Loadport，多至8个涂胶腔体和8个显影腔体
可拓展支持12个涂胶腔体及12个显影腔体，每小时晶圆产能可达300片；
腔体温度：23°C ±0.1°C ，烘烤范围为50°C至250°C
