美国安斯超科学公司（Angstrom Sciences，Inc）成立于1988年, 是一家专业从事物理气相沉积磁控溅射阴极及溅射靶材的高科技专业公司。的磁场设计和*的水冷技术使其产品倍受欢迎。产品主要应用真空镀膜的各种领域：航天航空，汽车，微电子，光源，光学，装饰，显示器，数据存储等。 安斯超公司对磁控溅射靶阴极的磁体外形和冷却循环结构进行了科学合理地优化设计，并且选取更强的磁体（比稀土磁体强30％），从而使安斯超的靶阴极比常规的靶阴有更为的性能。
核心技术及特点：
1. 特殊设计的磁体结构，使得磁场线跨度范围更宽，从而提高靶材的利用率和膜层的均匀性
2. 湍流冷却技术，使得水流能够更平缓的进入阴极，从而提高冷却效果
3. 特殊设计的耙材固定结构，使得耙材更换起来更简单，降低停工期
4. *的磁体材料 NdFeB，他的强度比其他的稀土磁体要强30%
优势
> *的靶材利用率，zui高可以达到50%，从而降低靶材成本 > *的产品均匀性，zui高可以达到±3%
> 可以在更低的真空以及更高的功率下运行：zui低压力可以达到10-4TOR
> 我们的直接水冷结构可以提高其功率密度达到250Watt s/in2
> 提高沉积速率
> 高标准高效率
溅射靶阴极翻新
安斯超提供旧的靶阴极翻新服务，使您的靶阴有安斯超优越的技术，满足您的工艺要求。特别有利于大面积沉积镀膜行业。
我们可以根据客户现有阴极的状况，分析现有的问题，提供切实可行的解决办法，使得他们现有的阴极也会拥有Angstrom阴极的特点，更高的利用率，更好的均匀性，更高的功率密度等特点。
我们一直致力于为世界上企业提供全新阴极及阴极翻新的工作。他们是：BOCCT，IVT，LEYBOLD，Materials Science，MRC，Perkin Elmer，Sloan，Ulvac,VAC-TEK，Varian，Veeco，Denton Vacuum，in，Fairchild Semiconductor等。
圆形磁控溅射阴极
