美国IST 原子层沉积表面改性设备 分子涂层 芯片系统
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RPX-210, RPX-540美国IST 原子层沉积表面改性设备 分子涂层 芯片系统

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2023-05-31 09:05:26
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北京哲勤科技有限公司

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产品简介

美国IST( Integrated Surface Technologies)公司 具有权的 Repellix 原子层沉积表面改性设备,使用ALD原子层沉积的方法,在分子级水平改善材料表面性质,可使材料具有亲水(提高表面能)、疏水(降低表面能)、超疏水、防水防油、生物兼容性能,且持续时间长。
此设备广泛应用于MEMS、纳米压印、微流控、生命科学、电子产品等领域。

详细介绍

美国ist(integrated surface technologies)公司 repellix 原子沉积表面改性(亲水、超疏水、防水设备)

——美国ist公司为pva tepla的战略合作公司

ist repellix 表面改性超疏水

 

型号:rpx-210, rpx-540, rpx-560

典型应用:

表面改性(微流控芯片管道表面改性)

mems表面抗粘合层(提高mems器件的抗摩擦性)

半导体制造和封装涂层

dna微阵列

生物兼容性改性

亲水 μ流体薄膜

疏水保护薄膜()

提高表面粘附性

无机氧化物原子沉积

控制:

pc精密控制,形成单分子层,可设置连续或交替进行。

灵活的控制系统,允许自行设计工艺,形成特色纳米结构。

同一设备更换不同单体可完成不同工艺。

 

优势:

灵活的工艺步骤

自然沉积,均匀性*

重复性好

低成本

适用大批量生产

配置:

腔体大小:317.5×243.84×254 mm

运行真空度:10 torr(100℃)

腔室温度:85℃

设备大小:1016×965.2×914.4 mm

回充气体:n2 或cda (5.5 bar)

pc控制

多达32,000可编程步骤

 

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