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等离子清洗机真空泵
等离子清洗机真空泵具有悠久历史的专业光学光谱仪器的设计和制造。自1969开始，Harrick Plasma ，行业享有盛名。 参考价￥30 -
PDC-002-HP高功率等离子清洗机
高功率等离子清洗机除了具有超清洗功能外，在特定条件下还可根据需要改变某些材料表面的性能。等离子体作用于材料表面，使表面分子的化学键发生重组，形成新的表面特性. 参考价￥30 -
霍尔效应测试仪
霍尔效应测试仪主要用于测量半导体材料的载流子浓度、迁移率、电阻率、霍尔系数、导电类型等重要参数，而这些参数是了解半导体材料电学特性必须预先掌控的. 参考价￥40 -
HMS-3300高温霍尔效应测试仪
高温霍尔效应测试仪恒电流源（1nA~20mA）采用六级电流范围设置，将可以接收的误差降到低；范德堡法则转换使用非接触装置有效降低仪器噪声；软硬件有针对性的设计，确保每个实验数据均为多次测试的平均值，使仪器拥有非常好的数据重现性。 参考价￥40 -
旋风等离子清洗机
旋风等离子清洗机等离子传感器：双等离子强度传感器（申请中）监测现场等离子源和远程等离子源。等离子强度实时显示在LCD触摸屏上。 参考价￥30 -
Tergeo-plus 等离子清洗机
Tergeo-plus 等离子清洗机清洗方式：沉浸式等离子清洗可以高速刻蚀和表面改性；远程等离子体可以轻微的清除表面污染，如SEM、TEM样品清洗； 参考价￥40 -
等离子清洗机
等离子清洗机采用气体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。等离子表面处理机外接一台真空泵，工作时清洗腔中的等离子体轻柔冲刷被清洗物的表面，短时间的清洗就可以使有机污染物被*地清洗掉，同时污染物被真空泵抽走，其清洗程度达到分子级。 参考价￥40 -
LSC-5000LSC-5000大基片单晶圆全自动兆声清洗机
大基片单晶圆全自动兆声清洗机技术的兆声和清洗技术的发展，对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了的水平，可以帮助用户获得zui干净的晶圆片和掩模版。 参考价￥40 -
SWC-4000单晶圆兆声清洗机
单晶圆兆声清洗机是一款带有小占地面积的理想设备，并且很容易安装在空间有限的超净间中。该系列设备都具有出众的清洗能力，并可用于非常广泛的基片。 参考价￥40 -
SWC-3000单片晶圆兆声清洗机
单片晶圆兆声清洗机提供了可控的化学试剂滴胶能力，这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。SWC和LSC具备对点试剂滴胶系统，可以zui大程度节省化学试剂的用量的。 参考价￥40