plasma真空等离子清洗机供应商：诚峰智造

真空式等离子处理系统CRF-VPO-MC-6L

名称（Name）

真空式等离子处理系统

型号（Model）

CRF-VPO-MC-6L

控制系统（Control system）

PLC+触摸屏

电源（Power supply）

380V/AC,50/60Hz,12.5kw

中频电源功率（MF Power）

2000W/40kHz

容量（Volume）

235L（Option）

层数（Electrode of plies）

6（Option）

有效处理面积（Area）

500（L）*500（W）（Option）

气体通道（Gas）

两路工作气体可选： Ar、N2、CF4、O2

产品特点：处理空间大，提升处理产能，采用PLC+触摸屏控制系统，有效控制设备运行。

可按照客户要求定制设备腔体容量和层数，满足客户的需求。

保养维修成本低，便于客户成本控制。

高精度，快响应，良好的操控性和兼容性，完善的功能和专业的支持。

应用范围：主要适用于生物医疗行业，印制线路板行业，半导体IC领域，硅胶、塑胶、聚合体领域，汽车电子行业，工业等。